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更新時間：2025-03-13 12:24:20瀏覽次數(shù)：38次
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四組四極桿質(zhì)譜平臺
1、NexION 5000G 四組四極桿組成的多重四極桿 ICP-MS 質(zhì)譜平臺
通過各四極桿的不同質(zhì)量分辨能力和工作模式， 結(jié)合碰撞反應(yīng)池技術(shù)，實(shí)現(xiàn)化學(xué)高分辨，獲得干擾消除。NexION 5000G 具有單四極桿、三重四極桿和多重四極桿能力，依據(jù)不同應(yīng)用需求，簡單、靈活進(jìn)行選擇，進(jìn)行準(zhǔn)確定量、干擾定性和分子離子反應(yīng)機(jī)理研究等。
2、四極桿離子偏轉(zhuǎn)器（Q0）
具有到動態(tài)掃描和固定離子篩選模式，個質(zhì)量分析器（Q1）可用作質(zhì)量分析器或離子導(dǎo)桿， 通用池四極桿（Q2）靈活選擇離子導(dǎo)桿（STD）、動能歧視（KED）和動態(tài)質(zhì)量帶寬調(diào)諧（DRC）模式，第二個質(zhì)量 分析器（Q3）可用作質(zhì)量分析器或離子導(dǎo)桿。
自激式射頻（RF）發(fā)生器
耐受各類復(fù)雜基體，LumiCoil TM 射頻線圈采用自散熱設(shè)計，無需額外的水冷或風(fēng)冷，無需維護(hù)。 PlasmaLokTM 技術(shù)采用虛擬接地技術(shù)，消除等離子體二次放電，無需額外物理接地，因而無需維護(hù)和更 換（如屏蔽炬）
三錐接口（TCI）與 OmniRing 技術(shù)
第二代三錐接口（TCI）融入創(chuàng)新的 OmniRingTM 技術(shù)，實(shí)現(xiàn)更好的基體耐受性和緊湊離子束，大錐 孔設(shè)計有利于高總?cè)芙夤腆w含量樣品信號穩(wěn)定和避免錐口堵塞。三 錐位于真空腔外，維護(hù)快速簡單。
四極桿離子偏轉(zhuǎn)器 (QID)
將離子束整體偏轉(zhuǎn) 90 度，實(shí)現(xiàn)中性成分和光子的分離，同時動態(tài)離子聚焦與質(zhì)量篩選，降低背景和干擾，提供無以倫比的穩(wěn)定性
四組四極桿
NexION 5000G 多重四極桿 ICP-MS，的四組四極桿設(shè)計結(jié)合碰撞反應(yīng)池技術(shù)，提供超低的背景等效濃度和優(yōu)異的檢測極限， 獲得分析結(jié)果的高精度和可重現(xiàn)性。
通用池技術(shù)（UCT）
四極桿通用池可靈活選擇離子導(dǎo)桿、動能歧視和動態(tài)質(zhì)量帶寬調(diào)諧模式。的動 態(tài)質(zhì)量帶寬調(diào)諧 （DBT），精確控制分子離子反應(yīng)，有效抑制反應(yīng)副產(chǎn) 物的發(fā)生。標(biāo)配四路碰撞反應(yīng)氣，池內(nèi)可以使用各類 純氣體及其混合氣，包括活性很強(qiáng)的大分子等氣體， 如純 NH3、He、H2、CH4、CH3 F、O2 和 CO2 等。同時，池 內(nèi)氣體可實(shí)現(xiàn)氣路在線任意比例混合，非常靈活。
第二代三錐接口（Triple Cone Interface）和四極桿離子偏轉(zhuǎn)器（Quadrupole Ion Deflector）技術(shù)
業(yè)已證明的可靠三錐接口（TCI）融入創(chuàng)新的 OmniRingTM 技術(shù)，實(shí)現(xiàn)離子的三重聚焦。擁有無二的大孔徑錐 口和的超錐設(shè)計，實(shí)現(xiàn)更好的基質(zhì)耐受性和緊湊離子束，阻止樣品在質(zhì)譜儀內(nèi)部的沉積，以降低背景和干擾，優(yōu)化 信號穩(wěn)定性。大錐孔設(shè)計有利于高總?cè)芙夤腆w含量樣品信號穩(wěn)定和避免錐口堵塞。OmniRingTM 技術(shù)確保儀器獲得超 低背景等效濃度的同時，更能適合各類復(fù)雜基質(zhì)的應(yīng)用。同時三錐位于真空腔外，維護(hù)快速簡單。
新一代離子提取技術(shù)的四極桿離子偏轉(zhuǎn)器（QID）匹配新的 Target Lens 技術(shù)，將離子束整體偏轉(zhuǎn) 90 度，實(shí)現(xiàn)中性成 分和光子的分離，同時動態(tài)離子聚焦與質(zhì)量篩選，降低背景和干擾，提供無以倫比的穩(wěn)定性。該技術(shù)與三錐接口（TCI）結(jié)合，確保 NexION 5000G 四極桿通用池?zé)o需清洗或更換。
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