uv光解除臭設(shè)備利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

uv光解除臭設(shè)備價(jià)格性能特點(diǎn)

一、高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率zui高可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).

二、無(wú)需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。，

三、適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

五、無(wú)需預(yù)處理:惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間，濕度在30%-98%、PH值在2-13之間均可正常工作。

設(shè)備占地面積小，自重輕:適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

是利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體的裝置。
應(yīng)用噴漆車(chē)間、油墨印刷、噴涂車(chē)間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體。

成本低:本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低&lt;50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。 優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。

原理

一、UV光解除臭裝置利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如:氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無(wú)害或低害的化合物，如CO2、H2O等。

二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。