光催化氧化設(shè)備 

特點：

光解廢氣處理設(shè)備能將廢氣中的有害物質(zhì)氧化分解為水、二氧化碳等的分子化合物，適合高濃度、煙霧大、高風(fēng)量的廢氣處理。

光解催化設(shè)備能將廢氣*凈化為無污染的低分子物質(zhì)，可以避免二次污染，廢氣凈化*高效。

光催化氧化利用人工紫外線燈管產(chǎn)生的真空波紫外光作為能源來活化光催化劑，驅(qū)動氧化—還原反應(yīng)，而且光催化劑在反應(yīng)過程中并不消耗，利用空氣中的氧作為氧化劑，有效地降解有毒有害廢臭氣體成為光催化節(jié)約能源的zui大特點。

半導(dǎo)體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有機物如四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以對難以降解的有機物具有特別意義，光催化的有效氧化劑是羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-），其氧化性高于常見的臭氧、雙氧水、*、次氯酸等。

光催化氧化對從烴到羧酸的種類眾多有機物都有效，即使對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有很好的去除效果，只要經(jīng)過一定時間的反應(yīng)可達到*凈化。

在理論上，光催化劑的壽命是無限長的，無需更換.可20小時不間斷工作。

光催化氧化設(shè)備

適用廢氣種類：

除臭設(shè)備適用于：丙酮、丁酮、乙酸乙酯、VOC 、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯系物、、 苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基等臭氣和廢氣。

優(yōu)點：

1、uv光解除臭設(shè)備集氣安裝基于空氣動力學(xué)原理,取舍合理的吸風(fēng)口外形和集風(fēng)地位,使空氣的氣流進入凈化系統(tǒng)。

2、抽風(fēng)機風(fēng)機采用低能耗、低噪音風(fēng)機,提供廢氣排放及克服凈化裝置的阻力。

3、凈化裝置部分粗過濾采用高性能過濾材料,阻力小。uv光解除臭設(shè)備對廢氣進行粗過濾,可去除廢氣中的懸浮顆粒和小霧滴。濾網(wǎng)強度好、耐腐蝕、清洗方便、清洗后可重復(fù)使用、過濾阻力低。

4、寬譜納米光催化裝置為凈化uv光解除臭設(shè)備的主要全體,采納寬譜、化合納米光催化劑。