幾種電鍍廢水處理工藝流程說明

【資料簡(jiǎn)介】

    電鍍廢水

　　電鍍生產(chǎn)工藝有很多種，由于電鍍工藝不同，所產(chǎn)生的廢水也各不相同，一般電鍍企業(yè)所排出的廢水包括有酸、堿等前處理廢水，氰化鍍銅的含氰廢水、含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水等重金屬?gòu)U水。此外還有多種電鍍廢液產(chǎn)生。對(duì)于含不同類型污染物的電鍍廢水有不同的處理方法，分別介紹如下：

　　1.含氰廢水

　　目前處理含氰廢水比較成熟的技術(shù)是采用堿性氯化法處理，必須注意含氰廢水要與其它廢水嚴(yán)格分流，避免混入鎳、鐵等金屬離子，否則處理困難。該法的原理是廢水在堿性條件下，采用氯系氧化劑將qing化物破壞而除去的方法，處理過程分為兩個(gè)階段，階段是將氰氧化為氰酸鹽，對(duì)氰破壞不*，叫做不*氧化階段，第二階段是將氰酸鹽進(jìn)一步氧化分解成二氧化碳和水，叫*氧化階段。

　　參考工藝流程

　　含氰廢水→調(diào)節(jié)池→一破氰池→二破氰池→斜沉池→過濾池→回調(diào)池→排放

　　反應(yīng)條件控制：

　　一氧化破氰：pH值10～11;理論投藥量：簡(jiǎn)單qing化物CN-:Cl2=1:2.73，復(fù)合qing化物CN-:Cl2=1:3.42。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為300～350mv，反應(yīng)時(shí)間10～15分鐘。

　　二氧化破氰：pH值7～8(用H2SO4回調(diào));理論投藥量：簡(jiǎn)單qing化物CN-:Cl2=1:4.09，復(fù)合qing化物CN-:Cl2=1:4.09。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為600～700mv;反應(yīng)時(shí)間10～30分鐘。反應(yīng)出水余氯濃度控制在3～5mg/1。處理后的含氰廢水混入電鍍綜合廢水里一起進(jìn)行處理。

　　2.含鉻廢水

　　含六價(jià)鉻廢水一般采用鉻還原法進(jìn)行處理，該法原理是在酸性條件下，投加還原劑、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、二氧化硫等，將六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻，然后投加氫氧化鈉、氫氧化鈣、石灰等調(diào)pH值，使其生成三價(jià)鉻氫氧化物沉淀從廢水中分離。

　　參考工藝流程

　　含Cr6+廢水→調(diào)節(jié)池→還原反應(yīng)池→混凝反應(yīng)池→沉淀池→過濾器→pH回調(diào)池→排放

　　還原反應(yīng)條件控制：加硫酸調(diào)整pH值在2.5～3，投加還原劑進(jìn)行反應(yīng)，反應(yīng)終點(diǎn)以O(shè)RP儀控制在300～330mv，具體需通過調(diào)試確定，反應(yīng)時(shí)間約為15-20分鐘。攪拌可采用機(jī)械攪拌、壓縮空氣攪拌或水力攪拌。

　　混凝反應(yīng)控制條件：PH值：7～9，反應(yīng)時(shí)間：15～20分鐘。