一、EDI高純水設(shè)備說(shuō)明：

EDI也是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不干凈,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生Ｈ和ＯＨ離子實(shí)現(xiàn)樹(shù)脂自再生來(lái)克服樹(shù)脂失效后通過(guò)化學(xué)藥劑再生的缺陷,是20世紀(jì)80年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。
EDI裝置包括陰/陽(yáng)離子交換膜、離子交換樹(shù)脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過(guò),不允許陽(yáng)離子通過(guò),而陽(yáng)離子交換膜只允許陽(yáng)離子透過(guò),不允許陰離子通過(guò)。離子交換樹(shù)脂充夾在陰陽(yáng)離子交換膜之間形成單個(gè)處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開(kāi),形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽(yáng)電極形成電場(chǎng)。來(lái)水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下通過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜被去除,進(jìn)入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹(shù)脂大大地提高了離子被去除的速度。同時(shí),水分子在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹(shù)脂保持狀態(tài)。EDI裝置將給水分成三股獨(dú)立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為得到的產(chǎn)水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

二、EDI高純水設(shè)備工作原理 ：

一般自然水源中都會(huì)存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預(yù)處理，有95%-99%以上的離子可以被去除。反滲透產(chǎn)水的電阻率一般范圍是0.05-1.0兆歐，即反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率的一般范圍為20-1μS/cm。根據(jù)在實(shí)際應(yīng)用的情況，EDI電去離子產(chǎn)品水電阻率的范圍一般為5~18.2 兆歐。另外，原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體（如CO2）和一些弱電解質(zhì)（如硼、二氧化硅等），這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中須被除掉。但是反滲透預(yù)處理對(duì)于這些雜質(zhì)的去除效果較差。因此，EDI的作用就是除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì))，將水的電阻率從0.05~1.MΩ/cm提高到5~18.2 MΩ/cm。

三、EDI高純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：
1、無(wú)需酸堿再生，無(wú)化學(xué)藥劑使用，無(wú)酸堿廢水排放，生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染，屬清潔生產(chǎn)；
2、無(wú)需停機(jī)再生，連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水；
3、運(yùn)行穩(wěn)定可靠，降低運(yùn)行和維修費(fèi)用；
4、無(wú)需派專(zhuān)門(mén)人員看守，易于實(shí)現(xiàn)設(shè)備自動(dòng)化控制；
5、設(shè)備占地面積小，減少車(chē)間建設(shè)面積，節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用投資。
6、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶(hù)具體使用要求進(jìn)行個(gè)性化設(shè)計(jì)，結(jié)合的控制軟件，現(xiàn)場(chǎng)在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù)，避免人工誤操作，多方位確保系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

四、EDI高純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域 ：
1、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室；
2、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛；
3、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
4、超純材料和超純化學(xué)試劑；
5、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間；
6、汽車(chē)、家電表面拋光處理；
7、光電產(chǎn)品；
8、其他高科技精微產(chǎn)品 。

五、EDI高純水設(shè)備與離子交換設(shè)備
A、產(chǎn)水水質(zhì)比較：
EDI裝置是一個(gè)連續(xù)凈水過(guò)程，因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定，電阻率可達(dá)18.25兆歐，達(dá)到超純水的指標(biāo)?；齑搽x子交換設(shè)施的凈水過(guò)程是間斷式的,，在剛剛被再生后，其產(chǎn)品水水質(zhì)較高，而在下次再生之前，其產(chǎn)品水水質(zhì)較差。
B、投資量比較
與混床離子交換設(shè)備相比EDI裝置投資量要高約20%左右，但從混床需要酸堿儲(chǔ)存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護(hù)、樹(shù)脂更換來(lái)看,兩者費(fèi)用相差在10%左右。隨著技術(shù)的提高與批量生產(chǎn)，EDI裝置所需的投資量會(huì)大大的降低。另外，EDI裝置設(shè)備小巧，所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床。
C、運(yùn)行成本比較：
EDI裝置運(yùn)行費(fèi)用包括電耗、水耗、藥劑費(fèi)及設(shè)備折舊等費(fèi)用，省去了酸堿消耗、再生用水、廢水處理和污水排放等費(fèi)用。

六、EDI高純水設(shè)備安裝要求 ：

1、無(wú)須專(zhuān)做安裝基礎(chǔ)，地基堅(jiān)實(shí)水平即可；
2、入水水壓如低于0.2Mpa需加裝管道泵；
3、使用前需先沖洗管道，避免雜質(zhì)堵塞閥體，污染樹(shù)脂；
4、不可用加碘鹽、加鈣鹽作再生劑，定期向鹽罐加鹽，確保鹽水飽和濃度（應(yīng)保證溶解時(shí)間不小于六小時(shí)）；
5、設(shè)備配置。

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