工藝優(yōu)勢：

    采用等離子光解組合工藝，優(yōu)勢互補。先用紫外UV光解工藝將有機廢氣成分中大部分的分子化學鍵裂解，并同時裂解氧氣產生大量的氧化能力很強的臭氧，這些臭氧會將有機廢氣裂解后的游離態(tài)原子和分子基團進行氧化，生成CO₂和H₂O；由于有機廢氣一般成份較為復雜，部分有機分子的化學鍵鍵能較高，甚至高于光解的紫外線所具有的能量，這部分廢氣成份僅靠光解就無法被紫外光裂解。低溫等離子工藝對低濃度的有機廢氣處理有著*的效果，經過光解凈化后的有機廢氣濃度已經大大降低，而且等離子凈化工藝對有機分子鍵鍵能沒有具體限制，因此，在光解之后增加一步低溫等離子工藝，可以*將有機廢氣凈化，達到其他單獨工藝無法達到的效果。經實際案例運用后檢測，等離子光解組合工藝設備對有機廢氣的凈化率可穩(wěn)定在90%以上。

等離子光解凈化工藝原理：

光解部分：

*，紫外線是由電磁波組成，其本身所帶有的能量與波長直接有關，波長越短，能量越大。通過采用D波段內的真空紫外線（波長范圍170~184.9nm），照射有機氣體或惡臭氣體分子，當這些氣體分子吸收了這類紫外線光后，因紫外線光本身所帶有的能量，使有機氣體或惡臭氣體分子內部發(fā)生裂解，化學鍵斷裂，形成游離狀態(tài)的原子或基團（C*、H*、O*等）。同時，混合氣體中的氧氣被紫外線光裂解形成游離的氧原子并結合生成臭氧【UV+O₂→O^-+O*(活性氧) O*+O₂→O₃(臭氧)】；混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解產生羥基【UV+H₂O→H⁺+OH^-(羥基) 】，而這些生成的臭氧和羥基具有*的氧化性，可將廢氣分子裂解產生的原子和基團（甚至是有機氣體或惡臭氣體分子）氧化成H₂O和CO₂等無污染的低分子化合物。

另外，利用高能紫外線光束可裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺菌的目的。

等離子部分：

采用脈沖高壓高頻電源和齒板放電裝置放電，在放電設備中產生的由電子、離子、自由基和中性粒子所組成的電離氣體就是等離子體。這些在強電場的作用下，通過電場的有機廢氣分子受這些等離子體的作用獲得足夠高的能量，使其電離、離解，進而產生了大量的帶有能量的自由電子，當這些電子的能量與C-C、C=C、C-H鍵的鍵能相等或更大時，可使這些碳氫化合物的分子鏈打開并被破壞其結構，使之形成游離態(tài)原子或基團；此外，在強電場作用下產生的臭氧也具有較強的氧化能力，這樣有機廢氣的氣體分子zui終被氧化成H₂O和CO₂等無污染的低分子化合物。由于整個反應過程是采用高壓電場而在常溫下進行，故又稱作低溫等離子氧化工藝。

產品性能優(yōu)勢：

1.反應速度快，在毫秒級的時間內，瞬間對有機廢氣分子進行氧化還原反應，將廢氣中的大部分污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質。

2.一次性凈化效率高，可同時凈化多種污染物，尤其對有機廢氣的凈化效果尤為明顯。

3.設置多重防火措施，采用開關、電源、電路三重自動保護。

4.設備體積小，結構緊湊，方便現(xiàn)場安裝。

5.操作維護方便，模塊化設計，可成塊取出檢修和清理。

6.運行成本低，設備自帶高頻變壓器，運行功率小，耗電量低，且不需其他附帶費用。

產品適用領域：

本產品適用于噴漆房、印刷噴涂車間、化工廠、醫(yī)藥、印染及氣體有機溶劑揮發(fā)類有機廢氣的凈化處理工程。