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深圳海納光學(xué)有限公司

主營產(chǎn)品: 激光護目鏡,可飽和吸收鏡,衍射光學(xué)元件,光束整形器,太赫茲透鏡,太陽能模擬器,太赫茲相機,激光測量儀,離軸拋物面鏡,微透鏡陣列

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CdSe晶體非線性光學(xué)晶體AgGaS2,CdSe,AgGaSe2 壓電晶體
非線性光學(xué)晶體AgGaS2,CdSe,AgGaSe2 壓電晶體
參考價 5300
訂貨量 1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 CdSe晶體
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 深圳市

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更新時間:2022-12-01 09:32:58瀏覽次數(shù):2043

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【簡單介紹】
加工定制
非線性光學(xué)晶體AgGaS2,CdSe,AgGaSe2,指有非線性光學(xué)效應(yīng)的晶體,廣義指在強光或外場作用下能產(chǎn)生非線性光學(xué)效應(yīng)的晶體。通常將強光作用下產(chǎn)生的稱為非線性光學(xué)晶體。

非線性光學(xué)晶體AgGaS2,CdSe,AgGaSe2

硒化鎘(CdSe)晶體具有高達24μm的紅外傳輸特性,具有相當(dāng)大的非線性(d31 = 18 pm/V)和較小的離場角。CdSe晶體可應(yīng)用于差頻產(chǎn)生(DFG),光學(xué)參量振蕩(OPO)方案,提供超過12μm的吸收邊以上的紅外激光輻射。例如,CdSe OPO有可能被2μm的Tm摻雜、Ho摻雜、Tm和Ho共摻激光器泵浦,并產(chǎn)生長紅外空轉(zhuǎn)輻射。除非線性光學(xué)應(yīng)用外,硒化鎘晶體材料還可用于紅外光學(xué)元件:基片、偏振片、波片等。

非線性光學(xué)晶體AgGaS2,CdSe,AgGaSe2指有非線性光學(xué)效應(yīng)的晶體,廣義指在強光或外場作用下能產(chǎn)生非線性光學(xué)效應(yīng)的晶體。通常將強光作用下產(chǎn)生的稱為非線性光學(xué)晶體。立陶宛Optogama公司為基礎(chǔ)研究、應(yīng)用研究和工業(yè)應(yīng)用提供不同的非線性晶體。晶體生產(chǎn)技術(shù)有:Stepanov,Kyropoulos,CZ,溫度梯度法,通量法。AgGaSe 2晶體、AgGaS 2晶體、CdSe晶體是三種相對不太常用的非線性光學(xué)晶體,但也有各自特殊的效果。

硒酸銀(AgGaSe2, AGSE)是一種有效的紅外輻射倍頻晶體,其透射光譜為0.73μm-18μm,在1800 nm中心附近無殘余電子射線吸收。AGSE的有效傳輸范圍在0.916μm以內(nèi),且相位匹配范圍寬,在各種激光泵浦下具有很好的應(yīng)用潛力。在2.05μm處,用Ho:YLF激光泵浦AGSE可獲得2.512μm范圍內(nèi)的調(diào)諧。

硫鎵銀晶體(AgGaS2, AGS)在紅外光譜范圍內(nèi),AGS已被證明是一種有效的非線性參量相互作用晶體。其透明區(qū)為0.53~12μm,基于AGS的光學(xué)參量振蕩器在紅外光譜范圍內(nèi)具有連續(xù)可調(diào)諧的寬波長輻射特性。在Nd:YAG激光器泵浦的光學(xué)參量振蕩器中,采用了從550 nm開始的高短波長透明性。采用250nm泵浦激光器,可調(diào)諧2.5~12.0μm左右的AGS光參量振蕩器,輸出范圍可通過和頻混頻或差頻混頻(sfm/dfm)來擴展。該晶體具有較高的非線性系數(shù)、較高的損傷閾值和較寬的透射范圍.它還具有較低的光吸收和散射,較低的波前畸變。AGS具有近紅外和深紅外非線性相互作用的highest優(yōu)點.AGS在0.53~12μm范圍內(nèi)是透明的。

硒酸銀晶體主要特點:

-優(yōu)良的傳輸范圍從0.73到18μm

-低光吸收和低散射

-高FOM(品質(zhì)因數(shù)),用于NIR和MIR中的非線性相互作用

 

AgGaSe 2晶體主要應(yīng)用:

       - 4.0~18.3μm紅外區(qū)的頻率混合

-CO2激光器的二次諧波產(chǎn)生與上轉(zhuǎn)換

-效率達到10%的固體激光器的可調(diào)諧OPO

 

AgGaSe 2晶體技術(shù)特性:

化學(xué)公式

AgGaSe2

晶體結(jié)構(gòu)

四邊形,42m

晶格參數(shù)

A=5.9920,c=10.8803

光學(xué)對稱性

負單軸(NO>Ne,λ<804 nm Ne>NO)

密度

5.7克/厘米3

Mohs硬度

3-3.5

透明度范圍@“0”透過率水平

0.71-19μm

Sellmeier方程@T=293 K(λinμm)

no2=6.8507+0.4297/(λ)2-0.1584)-0.00125λ2; ne2=6.6792+0.4598/(λ)2-0.2122)-0.00126λ2

折射率@10.5μm

no=2.5917,ne = 2.5585

導(dǎo)熱系數(shù)@T=293 K

1 (||c) Wm-1K-1, 1,1 (⊥c) Wm-1K-1

激光損傷閾值

>10兆瓦/cm2@10.6μm,150 ns

 

硫鎵銀晶體主要特點:

-傳輸范圍為0.5到12μm的Only非線性特性

-低光吸收和低散射

-短波長透光。

 

AgGaS2晶體主要應(yīng)用:

-4.0~18.3μm中紅外區(qū)的頻率混合

-CO的二次諧波產(chǎn)生與上轉(zhuǎn)換2雷射

-固體激光器的可調(diào)諧OPO

 

AgGaS2晶體技術(shù)特性:

化學(xué)公式

AgGaS2

晶體結(jié)構(gòu)

四邊形,42m

晶格參數(shù)

A=5.742,c=10.26

光學(xué)對稱性

負單軸(N)o>ne,λ<0,497μmne>no)

密度

4.58克/厘米3

Mohs硬度

3-3.5

透明度范圍@“0”透過率水平

0.47-13μm

Sellmeier方程@0,54-12,9μm(λinμm)

no2=5.79419+0.23114/(λ)2 – 0.06882) – 2.4534×10-3 λ2 + 3.1814×10-7 λ4 – 9.7051×10-9 λ6;

ne2=5.54120+0.22041/(λ)2 – 0.09824) – 2.5240×10-3 λ2 + 3.6214×10-7 λ4 – 8.3605×10-9 λ6

折射率@10.6321μm

no=2.3471,ne = 2.2914

導(dǎo)熱系數(shù)@T=293 K

1.4(x{e76f}c)-1K-1,1.5(⊥c)Wm-1K-1

 

硫鎵銀晶體產(chǎn)品規(guī)格:

透光孔徑

85%

面尺寸公差

+0/-0.2毫米

厚度公差

±0.2毫米

平行度誤差

<30 arcsec

保護槽

<0.2 mm at 45°

表面質(zhì)量

20-10 S-D

波前畸變

<λ/4@6328 nm

涂層

BBar/BBar@12.2-2.4μm/2.4-11μm

激光損傷閾值

>350兆瓦/厘米2@1064 nm,10 ns

 

CdSe晶體產(chǎn)品型號:

SKU

面尺寸

長度

塞塔

PHI

應(yīng)用

涂層

7356

5x5毫米

1毫米

39°

45°

DFG@1,2-2,4μm,I型

BBar/BBar@1.2-2.4/2.4-11μm,AOI=0°

7395

8x8毫米

1毫米

39°

45°

DFG@1,2-2,4μm,I型

BBar/BBar@1.2-2.4/2.4-11μm,AOI=0°

7396

6x6毫米

2毫米

50°

0°

DFG@1,2-2,4μm,I型

BBar/BBar@1.2-2.4/2.4-11μm,AOI=0°

7397

8x8毫米

2毫米

50°

0°

DFG@1,2-2,4μm,I型

BBar/BBar@1.2-2.4/2.4-11μm,AOI=0°

 

CdSe晶體的主要特點:

-寬透光度范圍(0.7-24μm)

-很大的非線性(d31 = 18 pm/V)

-小離場角

 

硒化鎘晶體的主要應(yīng)用:

- DFG,OPO方案產(chǎn)生的長紅外波長紅外輻射

-紅外光學(xué)元件的材料:基板,偏振片,波片等。

 

硒化鎘晶體的技術(shù)特性:

化學(xué)公式

CdSe

晶體結(jié)構(gòu)

六角,6毫米

晶格參數(shù)

A=4.2985,c=7.0150

光學(xué)對稱性

正單軸(N)e>no)

密度@288 K

5.81克/厘米3

Mohs硬度

3.25

透明度范圍@“0”透過率水平

0.7-24μm

Sellmeier方程@T=293 K(λinμm)

no2=4.2243+1.7680λ2/(λ)2-0.2270)+3.1200λ2/ (λ)2 - 3380);
ne2
=4.2009+1.8875λ2/(λ)2-0.2171)+3.6461λ2/ (λ)2 - 3629)

折射率@10,0μm

no=2.431,ne = 2.452

導(dǎo)熱系數(shù)@T=293 K

6.9(x{e76f}c)-1K-1.6,2(⊥c)Wm-1K-1

激光損傷閾值

60兆瓦/厘米2@10.6μm,200 ns

 



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