E-Cell可靠的模塊化EDI技術(shù)對于各種處理水量都具有費效比高的特點，現(xiàn)在該技術(shù)已經(jīng)成為勿需化學品再生的EDI技術(shù)的行業(yè)標準。

新產(chǎn)品標準型EDI模塊MK-3主要用于電力、半導體、微電子工業(yè)。E-CellEDI模塊MK-3系列產(chǎn)品的優(yōu)勢在于產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強、低能耗。
EDI模塊MK-3系列產(chǎn)品與其他公司EDI的區(qū)別
1、極水單獨排放，使得系統(tǒng)更安全可靠
2、膜板間距無須現(xiàn)場手動調(diào)節(jié)，減少人為因素導致模塊漏水的可能性
3、每個E-CellEDI模塊出廠前必須經(jīng)過31項工廠檢測并頒發(fā)質(zhì)量，全部E-CellTM模塊均取得CSA和NRTL/C認證及ISO14000認證，并具有CE標志。
SUEZ EDI模塊MK-3系列產(chǎn)水要求：倘若保證進水滿足進水水質(zhì)要求及按照操作說明對系統(tǒng)進行操作，E-Cell™模塊可以生產(chǎn)的產(chǎn)水(MK-3, MK-3 Mini)或者 的產(chǎn)水(MK-3 Pharm)。
SUEZEDI模塊MK-3系列產(chǎn)品特點
1、為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水
2、連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水
3、無需對模塊內(nèi)的混床樹脂進行酸堿再生
4、保證不漏水
5、無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了設計

EDI模塊MK-3系列產(chǎn)品說明和用途
E-CellEDI模塊MK-3系列為電去離子GE-EDI模塊，利用電流對反滲透產(chǎn)水進行去離子和拋光處理。E-CellEDI模塊MK-3產(chǎn)水為超純水，適用于當今對水質(zhì)要求較為苛刻的行業(yè)。MK-3主要用于

   為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水

   連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水

   無需對膜殼內(nèi)的混床樹脂進行酸堿再生

   保證不漏水

   無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了系統(tǒng)設計

典型應用：

半導體、微電子技術(shù)、化工、發(fā)電（NOx,鍋爐給水）、一般工業(yè)（冶金等）
EDI模塊MK-3產(chǎn)品質(zhì)量保證
 1、具有CE、UL和CSA標識
 2、由通過ISO 9001：2000認證的工廠制造
MK-3 模塊技術(shù)規(guī)范
裝運重量：92kg      尺寸（寬*高*厚）：30cm*61cm*48cm
MK-3 P模塊進水參數(shù)
總可交換陰離子（ppm以CaCO3計）：<25
電導率：<43us/cm
PH:4-11
溫度：4.4-38攝氏度
硬度（ppm以CaCO3計）：<1.0
二氧化硅（ppm以SiO2計）：<1.0
TOC(ppm):<0.5
濁度（NTU）：<1.0
色度（APHA）：5
余氯（ppm）：<0.05
Fe,Mn,H2S(ppm):<0.01
氧化劑：未檢出
油脂：未檢出
SDI (15min):<1.0
 
出水水質(zhì)
電阻率：>16MOhm.cm
PH:6.5-8

二氧化硼去除率：高達99%或低于5ppb

硼去除率：    >95%
 
工作參數(shù)：
標準產(chǎn)水量（M3/H）：3.4
產(chǎn)水量范圍（M3/H）：1.7-4.65
回收率：87-95%
濃水流向：逆流
是否加鹽：否
電壓（VDC）：0-300
電流（ADC）：0-5.2
 
進水壓力（bar）：4.8-6.9
標準壓降（bar）:1.4-2.4
壓差（bar）：0.34