配合反滲透設備，EDI超純水設備要將水中的導電介質幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率約10～18.3MΩ.cm極限值。
EDI純水設備
工藝流程：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點。
EDI超純水制取設備，工業(yè)EDI超純水設備出水水質*符合我國電子工業(yè)部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質標準、國內 外大規(guī)模集成電路水質標準。
工業(yè)EDI的應用領域：
zui近幾年電去離子在各個工業(yè)領域都越來越受重視，許多工業(yè)系統(tǒng)開始采用EDI作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術，如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。
（１）電力工業(yè)
據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費用約占電力成本的10％，而用工業(yè)EDI替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。
（２）制藥工業(yè)
雖然藥用水的特點是并不要求很高的去離子程度，但電去離子系統(tǒng)具有同時去鹽和控制微生物指標的特點，因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱該類系統(tǒng)性能穩(wěn)定，全流程計算機連續(xù)監(jiān)控，全自動操作無人值守。
〔３〕電子工業(yè)
電子工業(yè)對水質的要求*，水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ,而工業(yè)EDI出水一般在15-17 MΩ左右，因此在電子級水的生產過程多采用EDI＋拋光樹脂系統(tǒng)，即在EDI之后加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由于EDI已除去了大部分離子， 拋光樹脂幾乎不用再生，因此水處理費用仍然很低。
（４）電鍍與金屬表面處理
電去離子可用于電鍍廢水處理可以使水重復使用并回收重金屬離子。美國已有該類型系統(tǒng)的實驗裝置。
EDI與傳統(tǒng)混床的比較：
| 項目 | EDI | 混床 |
| 產水性質 | 15～18MΩ·cm | 2～10MΩ·cm |
| 穩(wěn)定性 | 水質穩(wěn)定 | 水質受樹脂交換狀況，再生品質影響大 |
| 操作性 | 操作簡便，無需專業(yè)熟練工 | 再生時對操作人員操作水平要求高 |
| 環(huán)保性 | 無需酸堿，無任何化學污染 | 需要酸堿再生，需解決酸堿儲存與排放的問題 |
| 連續(xù)運行 | 再生時無需停機，邊運行邊再生 | 再生時需要停機再生 |
| 運行費用 | 低 | 高 |
| 初期投資 | 較高 | 低 |
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