詳細摘要： 清洗機適用于5、6英寸Mask清洗工藝可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體自動清洗多種規(guī)格MASK掩膜光罩可接受不同規(guī)格MASK清洗定制
產品型號：CL200 MASK所在地：更新時間：2022-07-22 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
上海添時科學儀器有限公司
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詳細摘要： 清洗機適用于5、6英寸Mask清洗工藝可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體自動清洗多種規(guī)格MASK掩膜光罩可接受不同規(guī)格MASK清洗定制
產品型號：CL200 MASK所在地：更新時間：2022-07-22 在線留言
詳細摘要： 清洗機適用于5、6英寸Mask清洗工藝可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體自動清洗多種規(guī)格MASK掩膜光罩可接受不同規(guī)格MASK清洗定制
產品型號：CC200-CTM CUP所在地：更新時間：2022-07-22 在線留言
詳細摘要： 噴膠機適用于8英寸及以下晶圓的自動噴膠工藝全封閉結構,不銹鋼框架、鏡面不銹鋼面板高精度旋轉加熱平臺,具有晶圓真空吸附及自動頂升功能供膠系統(tǒng)采用微小流量供液系統(tǒng),...
產品型號：SP200所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 顯影機適用于8英寸及以下晶圓的勻膠工藝可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體全自動顯影擺臂,可實現(xiàn)顯影液、去離子水、氮氣的自動噴灑及吹干根據(jù)工藝要求可選擇柱形、扇形顯影...
產品型號：DE200所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 勻烤膠一體機適用于8英寸及以下晶圓的勻膠烤膠工藝可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體配置自動供膠系統(tǒng),根據(jù)客戶工藝選擇供膠方式觸摸式人機交互界面,實時顯示設備運行狀態(tài)...
產品型號：SH200所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 大型勻膠/顯影機適用于直徑450mm-800mm的非規(guī)則重載基底勻膠工藝可根據(jù)客戶基片規(guī)格及工藝定制設備不銹鋼全柜式柜體,多級安全系統(tǒng)透明觀察窗,配置專業(yè)排風及...
產品型號：AC800所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 超大型勻膠機適用于直徑450mm-2000mm的非規(guī)則重載基底勻膠工藝可根據(jù)客戶基片規(guī)格及工藝定制設備不銹鋼全柜式柜體,多級安全系統(tǒng)透明觀察窗,配置專業(yè)排風及排...
產品型號：所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 全自動標準2-6寸勻膠顯影機適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝設備配置:4套勻膠（顯影）、10套熱（冷）板單元6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝...
產品型號：所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 軌道式勻膠顯影機適用于8英寸及以下晶圓的勻膠顯影工藝設備配置:2套勻膠（顯影）單元、4套熱（冷）板單元可選8寸以下多種wafer尺寸全自動勻膠/顯影,烘烤工藝處...
產品型號：SH200-AT所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 全自動標準8寸勻膠顯影機適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝設備配置:4套勻膠（顯影）、10套熱（冷）板單元6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理...
產品型號：所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 刻蝕機適合于8英寸及以下晶圓的單片刻蝕工藝可選耐腐蝕PP柜體可按客戶需求定制設備規(guī)格全自動擺臂、可配備多路刻蝕液觸摸式人機交互界面,實時顯示設備運行狀態(tài)可選蝕刻...
產品型號：ET20所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 全自動/軌道式去膠剝離機適用于8英寸及以下規(guī)格晶圓的去膠剝離工藝（Liftoff工藝）不銹鋼柜體,觸摸式人機交互界面耐腐蝕透明觀察窗,配置專業(yè)排風及排廢系統(tǒng)8寸...
產品型號：所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 全自動噴膠機適用于8英寸及以下晶圓的自動噴膠工藝全封閉結構,不銹鋼框架、鏡面不銹鋼面板高精度旋轉加熱平臺,具有晶圓真空吸附及自動頂升功能供膠系統(tǒng)采用微小流量供液...
產品型號：SP200-AT所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 半柜式/全柜式清洗機適合于8英寸及以下晶圓的單片清洗工藝根據(jù)客戶要求可選配高壓、兆聲、二流體等多種清洗工藝不銹鋼半柜式、柜式柜體,觸摸式人機交互界面耐腐蝕透明觀...
產品型號：CL200所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言
詳細摘要： 全自動清洗機適用于2至6英寸晶圓的清洗工藝6寸以下wafer全自動清洗工藝處理適合產能要求較高的批量產線可選配MES協(xié)議轉換模塊
產品型號：SC200-AT所在地：更新時間：2022-04-28 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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