二氧化氯發(fā)生器二次補氯設(shè)備哪家好
二氧化氯發(fā)生器產(chǎn)品因所采用的工藝技術(shù)不同,在原料的轉(zhuǎn)化得率方面;在反應(yīng)器加熱耗能方面;在運行所需的動力水耗電、用水量方面有很大差異。如日供水1萬噸以下小水廠,選用正壓直接加注式二氧化氯發(fā)生器與普通負(fù)壓射流曝氣式發(fā)生器相比,單射流動力用水一項,每年就可節(jié)約用電9000~12000度,供水量大的水廠節(jié)電將更多。消毒設(shè)備是*要用的關(guān)鍵設(shè)備,設(shè)備一次采購價格和日后*的運行成本,都是應(yīng)考慮的重要經(jīng)濟因素,應(yīng)在選購設(shè)備時加以著重考慮。
發(fā)生器的主要部件主要有哪些呢,我們簡單介紹一下以下四個:
1、水射器,它是一種抽氣元件。
2、計量泵,主要用來運輸原料和調(diào)節(jié)流量。
3、進氣管,主要作用是保持和大氣的相同。
4、安全閥,打開安全閥的時候,一定要把安全塞重新塞緊即可。
北極星環(huán)保網(wǎng)訊:雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機會,但是著設(shè)備運行時間的延展,EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞,這主要是EDI進水中含有較多的溶質(zhì),在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過0.8ppm)、CO2和較高的PH值,將會加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI膜塊進行清洗,使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。
EDI膜塊被污染堵塞的判定
1、在進水溫度、流量不變的情況下,進水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。
2、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水進水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。
3、在進水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下,產(chǎn)水水質(zhì)(電阻率)明顯下降。
4、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水排水流量下降35%。
膜塊堵塞的幾種形式
1、顆粒/膠體污堵
2、無機物污堵
3、有機物污堵
4、微生物污堵
EDI清洗注意:在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程,切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進行化學(xué)清洗。
●顆粒/膠體污堵
進水顆粒度≥5μm時會造成進水流道堵塞,引起膜塊內(nèi)部水流分布不均勻,從而導(dǎo)致膜塊整體性能降低。如果EDI膜塊的進水不是直接由RO產(chǎn)水端進入EDI膜塊,而是通過RO產(chǎn)水箱經(jīng)過增壓泵供水,建議在進入EDI膜塊前端增設(shè)保安過濾器(≤0.2μm)。在組裝EDI設(shè)備時,所有的連接管道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進入膜塊。
●無機物污堵
如果EDI進水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計值或者回收率超過設(shè)計值時,將導(dǎo)致濃水室和陰極室的結(jié)垢,生成鹽類物質(zhì)析出沉淀,通常結(jié)垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質(zhì)的濃度很小,接觸時間也很短,但隨著運行時間的累加,仍有發(fā)生結(jié)垢的可能,這種硬度結(jié)垢很容易通過酸洗去除。按照方案1中的方法,使用低PH溶液在系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)清洗,可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。
當(dāng)進水中的鐵和錳含量高,或者高TDS的水以外進入到EDI膜塊時,也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無幾物污堵??梢圆捎梅桨?進行清洗。
●有機物污堵
當(dāng)進水有機污染物TOC或TEA含量超過設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)時,淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生有機污堵??梢圆捎梅桨?的方法,用高PH值的藥水對淡水室及濃水室循環(huán)清洗可以將有機分子清除出離子交換樹脂對這種污堵進行清洗。
●微生物污堵
當(dāng)設(shè)備運行環(huán)境適于微生物生長,或者進水中存在較多的細(xì)菌和藻類的時候,EDI膜塊和系統(tǒng)也會發(fā)生微生物污堵??梢圆捎梅桨?、4中的方法用高PH鹽水進行清洗。如果微生物污堵情形比較嚴(yán)重時,可以采用方案5進行清洗。如果同時伴有無機物污堵,可以按照方案6加入酸洗步驟。
對于極嚴(yán)重的微生物污堵,可以采用方案7或8以高PH藥劑清洗。
EDI膜塊8大清洗方案
1清洗方案1——濃水室結(jié)垢清洗
1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。
2、分離EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接管路
3、連接清洗裝置,使清洗泵通過濃水管路進入EDI膜塊再回到清洗水箱,濃水進、出水閥開啟,關(guān)閉EDI淡水進水閥和產(chǎn)水閥。
4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。
5、啟動清洗泵,調(diào)節(jié)濃水進水閥,以規(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟)。(參見附表)
6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。
7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO產(chǎn)水),啟動清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)。
8、打開EDI進水閥和產(chǎn)水閥,同時對兩個水室進行沖洗。
9、檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì),直至與進水側(cè)電導(dǎo)率相近。
10、各個閥門,恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù)。
11、恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接。
12、開啟PLC控制柜電源,向EDI膜塊送電,轉(zhuǎn)入正常運行,并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。
二氧化氯發(fā)生器二次補氯設(shè)備哪家好