二氧化氯發(fā)生器二次補氯設備哪家好
二氧化氯發(fā)生器產品因所采用的工藝技術不同,在原料的轉化得率方面;在反應器加熱耗能方面;在運行所需的動力水耗電、用水量方面有很大差異。如日供水1萬噸以下小水廠,選用正壓直接加注式二氧化氯發(fā)生器與普通負壓射流曝氣式發(fā)生器相比,單射流動力用水一項,每年就可節(jié)約用電9000~12000度,供水量大的水廠節(jié)電將更多。消毒設備是*要用的關鍵設備,設備一次采購價格和日后*的運行成本,都是應考慮的重要經濟因素,應在選購設備時加以著重考慮。
發(fā)生器的主要部件主要有哪些呢,我們簡單介紹一下以下四個:
1、水射器,它是一種抽氣元件。
2、計量泵,主要用來運輸原料和調節(jié)流量。
3、進氣管,主要作用是保持和大氣的相同。
4、安全閥,打開安全閥的時候,一定要把安全塞重新塞緊即可。
北極星環(huán)保網訊:雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會,但是著設備運行時間的延展,EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞,這主要是EDI進水中含有較多的溶質,在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過0.8ppm)、CO2和較高的PH值,將會加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗,使之恢復到原來的技術特性。
EDI膜塊被污染堵塞的判定
1、在進水溫度、流量不變的情況下,進水側與產水側的壓差比原始數據升高45%。
2、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水進水側與濃水排水側的壓差比原始數據升高45%。
3、在進水溫度、流量及電導率不變的情況下,產水水質(電阻率)明顯下降。
4、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水排水流量下降35%。
膜塊堵塞的幾種形式
1、顆粒/膠體污堵
2、無機物污堵
3、有機物污堵
4、微生物污堵
EDI清洗注意:在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學藥劑并熟悉安全操作規(guī)程,切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進行化學清洗。
●顆粒/膠體污堵
進水顆粒度≥5μm時會造成進水流道堵塞,引起膜塊內部水流分布不均勻,從而導致膜塊整體性能降低。如果EDI膜塊的進水不是直接由RO產水端進入EDI膜塊,而是通過RO產水箱經過增壓泵供水,建議在進入EDI膜塊前端增設保安過濾器(≤0.2μm)。在組裝EDI設備時,所有的連接管道系統應沖洗干凈以預防管道內的顆粒雜質進入膜塊。
●無機物污堵
如果EDI進水含有較多的溶質且超出設計值或者回收率超過設計值時,將導致濃水室和陰極室的結垢,生成鹽類物質析出沉淀,通常結垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質的濃度很小,接觸時間也很短,但隨著運行時間的累加,仍有發(fā)生結垢的可能,這種硬度結垢很容易通過酸洗去除。按照方案1中的方法,使用低PH溶液在系統內部循環(huán)清洗,可以去除濃水室和陰極室的結垢。
當進水中的鐵和錳含量高,或者高TDS的水以外進入到EDI膜塊時,也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無幾物污堵??梢圆捎梅桨?進行清洗。
●有機物污堵
當進水有機污染物TOC或TEA含量超過設計標準時,淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生有機污堵。可以采用方案3的方法,用高PH值的藥水對淡水室及濃水室循環(huán)清洗可以將有機分子清除出離子交換樹脂對這種污堵進行清洗。
●微生物污堵
當設備運行環(huán)境適于微生物生長,或者進水中存在較多的細菌和藻類的時候,EDI膜塊和系統也會發(fā)生微生物污堵。可以采用方案3、4中的方法用高PH鹽水進行清洗。如果微生物污堵情形比較嚴重時,可以采用方案5進行清洗。如果同時伴有無機物污堵,可以按照方案6加入酸洗步驟。
對于極嚴重的微生物污堵,可以采用方案7或8以高PH藥劑清洗。
EDI膜塊8大清洗方案
1清洗方案1——濃水室結垢清洗
1、記錄清洗前所有數據。
2、分離EDI設備與其他設備的連接管路
3、連接清洗裝置,使清洗泵通過濃水管路進入EDI膜塊再回到清洗水箱,濃水進、出水閥開啟,關閉EDI淡水進水閥和產水閥。
4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。
5、啟動清洗泵,調節(jié)濃水進水閥,以規(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟)。(參見附表)
6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。
7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)。
8、打開EDI進水閥和產水閥,同時對兩個水室進行沖洗。
9、檢測濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。
10、各個閥門,恢復原始各設計流量數據。
11、恢復EDI各個管路與其他系統的連接。
12、開啟PLC控制柜電源,向EDI膜塊送電,轉入正常運行,并作好初次運行的數據記錄。
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