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日本arios小型濺射系統(tǒng) SS-DC?RF301這是一種使用濺射（通?？s寫為濺射）的薄膜沉積裝置。 濺射成膜的特點是飛入基板的顆粒具有相對較大的能量，因此可以...

日本shinkuu超小型噴金儀MSP-mini 該設(shè)備是帶有磁控管靶材的金屬鍍膜設(shè)備。用光學顯微鏡觀察透明材料的表面（Ag 靶材）或用電子顯微鏡（Au/Ag 靶...

日本shinkuu 小型噴金儀MSP-1S 該設(shè)備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。

日本attmol嵌入式微型泵OEM模塊TS-MP系列TS-MP系列“微型泵"OEM模塊（用于設(shè)備嵌入）是一種緊湊的高精度柱塞泵，可以處理“計量"和“連續(xù)液體進料...

日本attmol高壓惰性精密泵MIFP系列MIFP系列“高壓惰性精密泵"是一種精密泵，全非金屬（金屬惰性）規(guī)格下實現(xiàn)了未有的“高壓"和“高流量"性能。 還提供“...

日本tsukasa便攜式管泵 PP-DP1-200，100V具有增強控制功能和滴水控制功能的小型機身

日本iwaki磁懸浮泵MJ-100這是一種結(jié)合了磁浮軸承結(jié)構(gòu)和磁力驅(qū)動系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的離心泵。

日本shinkuu 四英寸貴金屬涂布機MSP-20MT4英寸貴金屬涂布機，具有全自動功能??！它可以處理大樣品和大量樣品。

日本shinkuu貴金屬涂布機MSP-20UM以支持各種應(yīng)用。 此外，可以根據(jù)條件設(shè)置自動執(zhí)行一系列涂層操作。 旁路排氣系統(tǒng)可最大限度地減少雜質(zhì)和聯(lián)鎖以防止錯誤...

日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強磁鐵促進陰極表面層電離的原理，然后用磁場用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。在電子顯微鏡應(yīng)用中，主...

日本shinkuu 小型金屬鍍膜裝置MSP-1S該設(shè)備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率...

日本shinkuu一鍵自動涂布設(shè)備MSP-mini該設(shè)備是帶有磁控管靶材的金屬鍍膜設(shè)備。用光學顯微鏡觀察透明材料的表面（Ag 靶材）或用電子顯微鏡（Au/Ag ...

日本shinkuu鋨涂層設(shè)備HPC-1SW該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。使用空心陰極樣品架，并通過低壓放電進行涂層，因此幾乎沒有樣品損壞。

日本shinkuu SEM 和 TEM 的鋨涂層設(shè)備HPC-20該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。配備觸摸屏和序列器控制，任何人都可以輕松、全自動地處理樣...

日本shinkuu φ300mmPt 鍍膜機MSP-12in配備兼容 12 英寸晶圓的大面積樣品臺。使用磁控管方法，當涂層電壓為 500V 或更低時，可減少離子...

日本shinkuu φ200mm/Pt 鍍膜機MSP-8min該設(shè)備是帶有磁控管靶材的金屬鍍膜設(shè)備。用于8英寸晶圓等大面積樣品的同時加工和多個樣品的加工。

日本shinkuu全自動φ100mm金屬鍍膜設(shè)備MSP-20MT該裝置是在電子顯微鏡樣品上涂敷貴金屬薄膜并進行導(dǎo)電處理的裝置。配備4英寸靶材，可在大樣品上鍍膜，...

日本shinkuu帶有磁控管靶材的金屬鍍膜設(shè)備MSP-mini只需按一下按鈕即可自動涂層。沒有麻煩的操作。高性價比機器。它是 MSP-1S 的弟弟。

日本shinkuu SEM樣品的金屬鍍膜裝置MSP-1S該設(shè)備是用于SEM觀察的貴金屬薄膜鍍膜設(shè)備。它是一種執(zhí)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子...

日本shinkuu濺射設(shè)備MSP-20UM該裝置是在電子顯微鏡樣品上涂敷貴金屬薄膜并進行導(dǎo)電處理的裝置。搭載大氣氣體導(dǎo)入機構(gòu)、氣體大氣壓調(diào)整功能、電流調(diào)整功能，...