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聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)雖然所有離子束都會(huì)濺射或蝕刻,但我們的一些系統(tǒng)的表面是專(zhuān)為高效和快速濺射而設(shè)計(jì)的。濺射光束有三個(gè)特點(diǎn):高電流、大光斑尺寸和寬視場(chǎng)。這些特性的結(jié)合意味著它們可以在大面積上盡快輸送大劑量的離子,以?xún)?yōu)化蝕刻速率。
C60-20S是一種高性能離子束,設(shè)計(jì)用于濺射表面,具有 小的損傷和減少的沿周濺射效應(yīng)。 C60-20S在高達(dá)20 kV的電壓下工作,可有效地濺射材 料,且損傷 小,無(wú)需重新沉積碳。 C60是XPS、AES和SIMS的理想升級(jí)組件,可在多種材料 上均勻?yàn)R射。
聚合物的高速、低化學(xué)損傷蝕刻。
C60離子濺射的速度比單原子束(包括氬和氙)快50倍,同時(shí) 對(duì)底層材料造成的損害要小得多。 下圖比較了15kev的C60濺射產(chǎn)率與15kev金、氙鎵和氬的 TRIM數(shù)據(jù)。在相反的例子中,用C60和單原子氬離子束濺 射清洗PTFE薄膜。 雖然兩種離子束都去除了表面污染,但只有C60離子束的表 面化學(xué)性質(zhì)沒(méi)有發(fā)生變化。
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