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行業(yè)產(chǎn)品

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低溫等離子

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產(chǎn)品型號

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更新時間:2022-01-21 11:37:26瀏覽次數(shù):502次

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產(chǎn)品簡介

原理低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體

詳細介紹

原理

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以也稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。

⑴電場+電子→高能電子




⑶活性基團+氧氣→生成物+熱

⑷活性基團+活性基團→生成物+熱

低溫等離子體的產(chǎn)生途徑很多,毅陽環(huán)保采用雙介質(zhì)阻擋放電形式(Dielectric Barrier Discharge,簡稱DDBD)。 介質(zhì)阻擋放電是一種獲得高氣壓下低溫等離子體的放電方法,這種放電產(chǎn)生于兩個電極之間。介質(zhì)阻擋放電可以在0.1~10105Pa的氣壓下進行,具有輝光放電的大空間均勻放電和電暈放電的高氣壓運行的特點。整個放電是由許多在空間和時間上隨機分布的微放電構(gòu)成,這些微放電的持續(xù)時間很短,一般在10ns量級。介質(zhì)層對此類放電有兩個主要作用:一是限制微放電中帶電粒子的運動,使微放電成為一個個短促的脈沖;二是讓微放電均勻穩(wěn)定地分布在整個面狀電極之間,防止火花放電。介質(zhì)阻擋放電由于電極不直接與放電氣體發(fā)生接觸,從而避免了電極的腐蝕問題。

低溫等離子體凈化工業(yè)廢氣的工作原理: 介質(zhì)阻擋放電過程中,電子從電場中獲得能量,通過碰撞將能量轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能或動能,這些獲得能量的分子被激發(fā)或發(fā)生電離形成活性基團,同時空氣中的氧氣和水分在高能電子的作用下也可產(chǎn)生大量的新生態(tài)氫、臭氧和羥基氧等活性基團,這些活性基團相互碰撞后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)。從等離子體的活性基團組成可以看出,等離子體內(nèi)部富含*化學(xué)活性的粒子,如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團發(fā)生反應(yīng),最終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O等物質(zhì),從而達到凈化廢氣的目的。

等離子體化學(xué)反應(yīng)過程大致如下:

從以上反應(yīng)過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到污染物分子中去,那些獲得能量的污染物分子被激發(fā),同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然后這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。 另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學(xué)活性,在化學(xué)反應(yīng)中起著重要的作用。

產(chǎn)品技術(shù)特點

DDBD低溫等離子體技術(shù)廣泛應(yīng)用于VOC氣體處理及惡臭氣體治理,具有處理效果好,運行費用低廉、無二次污染、運行穩(wěn)定、操作管理簡便、即開即用等優(yōu)點。

1、DDBD雙介質(zhì)阻擋放電對高壓、高頻電場通過雙層介質(zhì)阻擋層產(chǎn)生低溫等離子體直接作用在廢氣分子上,通過高能電子及自由基的對污染分子進行斷鍵、氧化等一系列的物理化學(xué)反應(yīng),從而達到去除污染物的效果;

2、DDBD產(chǎn)生高能電子的氧化能力可達11.7eV,可氧化絕大部分廢氣成分,產(chǎn)生的臭氧及自由基等在整個反應(yīng)過程中僅起到1%的作用;

3、DDBD介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生電子能量高,低溫等離子體密度大,達到常用等離子技術(shù)(電暈放電)的1500倍,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

4、DDBD技術(shù)反應(yīng)快,氣體通過反應(yīng)區(qū)的速度達到3-15米/秒,即達到很好的處理效果,其他技術(shù)氣體通過反應(yīng)區(qū)的速度0.01米/秒都很難達到DDBD的處理效果;

5、氣體通過部分,全部采用玻璃管防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了低溫等離子體技術(shù)設(shè)備腐蝕問題;其他技術(shù)是氣體與電極直接接觸,電極在3個月或1年內(nèi)會造成嚴重腐蝕,即使通過的氣體沒有腐蝕性,自身所產(chǎn)生的臭氧也會把電極造成腐蝕;

6、自動化程度高,設(shè)備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,對于部分化工生產(chǎn)的不連續(xù)性,可以在生產(chǎn)時開啟,不生產(chǎn)的間隙停止運行,大量的節(jié)約能源;

7、使用范圍廣闊,基本不受氣溫和污染物成分的影響,對惡臭異味的臭氣濃度有良好的分解作用,惡臭異味的去除率達80-98%,處理后的氣氣濃度達到國家標(biāo)準(zhǔn)。

應(yīng)用范圍

該技術(shù)可廣泛應(yīng)用于VOC氣體處理、異味臭味氣體處理、石油化工、制藥、食品加工、污水處理廠、垃圾處理廠、涂裝行業(yè)等諸多行業(yè)有機廢氣及臭氣的治理。


雙介質(zhì)阻擋放電和UV光解工藝對比


雙介質(zhì)阻擋放電

UV光解

原理

DDBD雙介質(zhì)阻擋放電對高壓、高頻電場通過雙層介質(zhì)阻擋層產(chǎn)生低溫等離子體直接作用在廢氣分子上,通過高能電子及自由基的對污染分子進行斷鍵、氧化等一系列的物理化學(xué)反應(yīng),從而達到去除污染物的效果。該技術(shù)主要用VOC及惡臭氣體治理工況。

UV光解即紫外光照射技術(shù),通過紫外燈管產(chǎn)生的185nm光譜與253.7nm光譜對廢氣成分進行照射,分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧,利用臭氧對廢氣進行氧化分解的技術(shù)。該技術(shù)主要用于殺菌、消毒等工況。

主體設(shè)備配置

由高壓電源和雙介質(zhì)阻擋放電模板組成。

由紫外燈管、鎮(zhèn)流器組成。

去除能力

DDBD產(chǎn)生高能電子的氧化能力可達11.7eV,可氧化絕大部分廢氣成分,產(chǎn)生的臭氧及自由基等在整個反應(yīng)過程中僅起到1%的作用。

UV光解產(chǎn)生臭氧氧化能力為1.24eV,只能氧化小部分廢氣組分。

更換周期

放電模板壽命大于10年

UV燈管壽命為6個月,且容易損壞,須頻繁更換

自檢測功能

放電模板出現(xiàn)結(jié)焦等問題時,電源有報警提示裝置

無法確定燈管是否工作或損壞


型 號/Model

EY-DLZ—X

放電模塊 Discharge

module

等離子技術(shù)方案

雙介質(zhì)阻擋放電

阻擋介質(zhì)

石英玻璃管

內(nèi)置電極

高精密純銅管

處理風(fēng)量/ Exhaust volume

500-2000 m3/h

輸出功率/Max power

650W

出廠功率設(shè)定/Default power

500W

額定電壓/Rated DC voltage

15KVAC

外形尺寸/Dimension

600*300*60mm(L*W*H)

重量/Packing

7KG

高壓電源

High voltage power supply

輸入電壓范圍/Voltage range

200—240VAC

頻率范圍/Frequency range

47-63Hz

交流電流/AC current

220V/2.2A

功率因數(shù)/Power factor

PF >0.90/220VAC

效率/Efficiency

90% @ 220VAC

浪涌電流/Inrush current

10A/220VAC

外形尺寸/Dimension

400*300*120mm(L*W*H)

重量/Packing

7KG

保護

Protection

過電流/Over current

Current limiting, recovers automatically after power supply is reset

過功率保護/over power

Constant power limiting, recovers automatically after fault condition is removed

環(huán) 境 Environment

工作溫度/Working temperature

‐40—+70℃(refer to static characteristic)

工作濕度/Working humidity

20-90%RH

儲 存 溫度 、 濕 度 /Storage temp,.Humidity

‐40—+85℃,20—90%RH



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