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上海斯邁歐分析儀器有限公司
主營產(chǎn)品： 氣相色譜、液相色譜、氣質(zhì)聯(lián)用儀、液質(zhì)聯(lián)用儀、原子吸收光譜儀、紫外分光光度計 |
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紫外分光光度計UV針對硅晶片表面光阻薄膜厚度測量
2022-2-12 閱讀(279)
很多方法都可以用來測量薄膜的厚度。這些方法中，島津紫外可見分光光度計提供了簡便的、對薄膜厚度不造成損害的測量方式。對硅片上兩個不同厚度的光阻層(0.5 µm, 3.0 µm)進行測量。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，薄膜越薄，波的周期越長，反之亦然。
允許對所有種類的薄膜進行簡易的并且不造成薄膜厚度損害的測量。從薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一個干涉圖。在一定波長范圍內(nèi)，薄膜的厚度可通過光譜上波的數(shù)量計算得到（在物質(zhì)的折射率已知的情況下）。
分光光度計開始研發(fā)的目的是為了對液體樣品進行吸光度檢測。近些年，由于快速增加的固體反射率和吸光度測定要求，高精度高能量的分光光度計在市場上大受歡迎，包括對半導(dǎo)體、膠片、玻璃和其他吸附性固體材料。同時，生命科學(xué)領(lǐng)域中也需要高通量的分析儀對超痕量樣品進行高速及高敏感度分析。藥品及制藥工業(yè)中則需要分析儀具備穩(wěn)定性，可追蹤性以及符合GXP和FDA 21 CFR Part11的合規(guī)性檢測功能。因為，分光光度計軟件必定支持這些功能。島津研發(fā)了適用于此要求的硬件及軟件。
