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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：配置專業(yè)運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)，PLC+觸摸屏控制方式，采用運(yùn)動(dòng)模組，操作簡便；配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈；可選配噴頭數(shù)量，滿足客戶多元化...

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：可選配多種類型噴嘴，使用于不同場(chǎng)合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；具有RS485/232數(shù)字通訊口和模擬量控制口，滿足客戶多元化需求。設(shè)備尺寸小巧，方便...

詳細(xì)摘要： plasma真空等離子清洗機(jī)供應(yīng)商：誠峰智造空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運(yùn)行?？砂凑湛蛻粢蠖ㄖ圃O(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。保養(yǎng)維修成本低，便于客...

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：配置專業(yè)移動(dòng)平臺(tái)，一鍵式控制啟動(dòng)，操作簡單；可配置特制平臺(tái)，滿足客戶多元化需求；可選配增加低溫處理系統(tǒng)，處理溫度可達(dá)45℃以下應(yīng)用范圍：主要應(yīng)用于電子...

詳細(xì)摘要： 等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面...

詳細(xì)摘要： 等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能（幾個(gè)至十幾電子伏特），可以破裂有機(jī)大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只...

詳細(xì)摘要： 等離子體處理可對(duì)材料進(jìn)行有效的表面凈化、表面活化、表面粗化、表面刻蝕、表面沉積。 可有效去除物體表面有機(jī)污染物和氧化物。主要特點(diǎn)：濕洗法清洗，表面一般都會(huì)有殘留...

詳細(xì)摘要： 等離子清洗機(jī)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加...

詳細(xì)摘要： 等離子處理機(jī)的設(shè)備特點(diǎn)：可靠的系統(tǒng)性能：實(shí)行全過程狀態(tài)和參量監(jiān)控；具有多重報(bào)警保護(hù)功能。友好的顯示界面：液晶顯示圖文操作界面，豐富的信息顯示和設(shè)備工作參量設(shè)置，...

詳細(xì)摘要： 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-RP1020-D名稱（Name）噴射型AP等離子處理系統(tǒng)型號(hào)（Model）CRF-APO-RP1020-D電源（Powe...

詳細(xì)摘要： 隨著高頻信號(hào)、高速數(shù)字化信息時(shí)代的到來，印刷線路板的種類也發(fā)生了變化。如今，高多層、高頻板材、剛撓結(jié)合等新型印制線路板需求量越來越大，此類印制板也帶來了新的工藝...

詳細(xì)摘要： 在印制電路板特別是高密度互連（HDI）板的制作中，需要進(jìn)行孔金屬化過程，使層與層之間通過金屬化的孔實(shí)現(xiàn)電氣導(dǎo)通。激光孔或者機(jī)械孔因?yàn)樵阢@孔過程中存在著局部高溫，...

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)：可選配多種類型噴嘴，使用于不同場(chǎng)合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；設(shè)備尺寸小巧，方便攜帶和移動(dòng)，節(jié)省客戶使用空間；可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中...