黃生
日本光學(xué)交流法熱擴(kuò)散率測量裝置 LaserPIT
本裝置是利用掃描激光加熱交流方式對薄膜、薄板、薄膜等薄板材料進(jìn)行面內(nèi)熱擴(kuò)散率測量的裝置。
在高導(dǎo)熱薄膜的情況下,也可以測量亞微米薄膜。
用
CVD金剛石、氮化鋁等高導(dǎo)熱薄板材料(厚度<500μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測量
銅、鎳、不銹鋼等各種金屬薄板材料(厚度>5μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測量
玻璃、樹脂材料等低熱導(dǎo)率薄板材料(厚度<500μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測量
高各向異性石墨片(厚度<100 μm)、聚酰亞胺、PET等聚合物薄膜(厚度> 5 μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測量
測量在玻璃基板上形成的氮化鋁薄膜、氧化鋁薄膜(厚度100-300nm)等(厚度30μm)的熱導(dǎo)率
形成于玻璃基板(厚度 0.03 mm)上的 DLC 薄膜(厚度 > 1 μm)的熱導(dǎo)率測量
在PET基材(厚度0.1mm)上形成的有機(jī)染料薄膜(厚度100-300nm)的熱導(dǎo)率測量
各種濺射靶材的評價(jià)
* 測量條件因材料和物理特性而異。所列條件僅供參考。
特征
從金剛石到聚合物的各種薄片材料的面內(nèi)熱擴(kuò)散率測量
適用于厚度為3至500微米的自支撐片材、薄膜、線材和纖維等多種材料
在基板上形成的厚度為 100 nm 至 1000 nm 的薄膜的熱導(dǎo)率可以通過微分法測量 * 僅室溫
可通過簡單的操作進(jìn)行測量
可通過專用軟件進(jìn)行控制、測量和分析
主體緊湊地集成了所有光學(xué)、控制和測量系統(tǒng)
規(guī)格
模型 | 激光PIT-R | LaserPIT-M2 |
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溫度范圍 | 轉(zhuǎn)播時(shí)間 | 室溫~200℃ |
交流電 | 激光二極管(685nm,30mW) | |
樣品尺寸 | 自支撐薄板:寬度 2.5 至 5 毫米 x 長度 30 毫米 x 厚度 3 至 500 微米基 板上的薄膜:寬度 2.5 至 5 毫米 x 長度 30 毫米 x 厚度 100 納米至 1000 納米 | |
測量周期 | 0.05~10/s | |
測量氣氛 | 在真空中 |