NWR193UC——短脈寬高頻率激光剝蝕系統(tǒng)

價格區(qū)間：180-250萬

NWR 193UC 短脈寬高頻率激光剝蝕系統(tǒng)
ESL公司推出的 NWR 193 創(chuàng)造了良好的 LA-ICP-MS 新體驗。提供樣品導航功能和*的顯微成像系統(tǒng)。具有高性能的大體積樣品室，和自動進樣功能。 主要用于固體樣品的原位分析，和大批量樣品分析。

&波長：193nm

&頻率：200Hz，300 Hz ，500Hz 可選

&能量密度@樣品表面：15J/cm²(高能量模式>20J /cm²)

&光斑尺寸：1-150μm

&IVA：無極可調光斑附件，可按1μm精度選取所有圓形光斑

&XYR：矩形光斑附件，可按1μm、1°的精度選取各種尺寸的矩形光斑

工業(yè)級的完整集成系統(tǒng)

這套系統(tǒng)注重微區(qū)分析特性，適用于缺陷分析和包裹體分析等。具有以下特點：
&顯示畫面和導航系統(tǒng)
&良好樣品處理能力 (快速響應和沖洗)
& 準確的分析結果
&  光學能量衰減器，*控制全程能量輸出

第三代激光剝蝕系統(tǒng)
NWR 193 UC 是第三代高性能193nm激光剝蝕進樣系統(tǒng)，為客戶提供良好的分析進樣工具，具有自動進樣，樣品導航等*功能，針對于原位分析和大批量分析應用。 NWR 193系統(tǒng)尤其注重微區(qū)特性的設計，光斑尺寸可達1μm，特別適用于瑕疵、包裹體的分析。 NWR 193 高度整合了緊湊型，簡單易用，提高了取樣分析的效率。

NWR 193 的優(yōu)勢
&對193nm激光更高的吸收率極大改進了所有材料的剝蝕效果，包括易碎和容易開裂的礦物。
&光束通過具有的勻化器*勻化，結合*的光束傳導系統(tǒng)，獲得極為平坦的剝蝕坑。所有剝蝕尺寸下，具有恒定能量密度。
&*的剝蝕深度和小到1μm的剝蝕坑，使其成為非常理想的包裹體和薄膜類樣品的分析工具。
& 產(chǎn)生更加細小的剝蝕顆粒，提高氣溶膠傳輸效率，并較大程度減小顆粒的沉積。
& 全自動激光剝蝕軟件，包括用于樣品導航的廣角視野觸摸屏幕。

可選附件:
& 150mm 超大LFC樣品室，可定制其它尺寸
& 多種可供選擇的樣品室
& 多路質量流量控制器
& 用戶定制的樣品承載件