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北京大方科技有限責任公司
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更新時間：2022-11-26 13:05:23瀏覽次數(shù)：263次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線網(wǎng)格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項目概述脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度，針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大、煙道環(huán)境復雜，對煙道監(jiān)測有更高要求的用戶，可采用網(wǎng)格取樣方式監(jiān)測氨逃逸
網(wǎng)格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)
脫硝噴氨過程需要準確監(jiān)測氨逃逸濃度，針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大、煙道環(huán)境復雜，對煙道監(jiān)測有更高要求的用戶，可采用網(wǎng)格取樣方式監(jiān)測氨逃逸。網(wǎng)格取樣裝置安裝在脫硝反應器出口煙道，經(jīng)過匯流母管與電除塵入口煙道連接，通過壓差帶動煙氣流動，煙氣在母管內(nèi)進行混合后進行取樣測量。
系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數(shù)：
根據(jù)脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，產(chǎn)品采用大方科技經(jīng)典的抽取+多反長光程測量技術，煙氣通過網(wǎng)格采樣系統(tǒng)取樣至母管混合后進入分析單元測量分析。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達30米，可大大提高測量精度。
四、系統(tǒng)特點
1 采用TDLAS技術，不受背景氣體影響
系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。
2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要
系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術，并且進行動態(tài)的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統(tǒng)采用多次反射測量池技術，光程可達30米，極大地提高了測量精度。
5 取樣更有代表性
根據(jù)煙道尺寸和用戶需求，選擇網(wǎng)格數(shù)量，取樣更有代表性。
6 技術，便于維護光學器件
大方科技*的樣氣室設計，包含維護窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學器件進行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護更加快速方便。
7 儀表自檢及自恢復功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復，使分析儀重新恢復測量工作狀態(tài)。
8 自主知識產(chǎn)權
大方科技深耕TDLAS技術領域20年，針對國內(nèi)應用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權，對產(chǎn)品擁有自主知識產(chǎn)權，產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。
五、典型應用：
大型機組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測
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