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多靶磁控濺射鍍膜機 DH500JJC

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產品型號DH500JJC

品       牌

廠商性質其他

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更新時間:2022-11-14 16:34:23瀏覽次數(shù):211次

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產品簡介

DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層工能膜-各種硬質膜,光學膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導體膜,介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機為前開門式設計,功能強,鍍膜質量穩(wěn)定,重復性好,操作簡便。DH500JJC磁控濺射鍍膜機.DH500JJC磁控濺射鍍膜機.DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機.多靶磁控濺射鍍膜機

詳細介紹

DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機

DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層工能膜-各種硬質膜,光學膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導體膜,介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。

該鍍膜機為前開門式設計,功能強,鍍膜質量穩(wěn)定,重復性好,操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材質SUS304不繡鋼材料制造,工藝規(guī)范,精致,保證了材料的成膜純度。

采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組,具有抽速快,無油,操作方便快捷,易于維護的特點。

◆ 鍍膜方式:可實現(xiàn)多靶共濺模式

◆ 磁控靶:圓柱/平面靶;

◆ 進氣系統(tǒng):三路質量流量計;

◆ 鍍膜室體積:500×500×600mm3

◆ 極限真空度:6.7×10-5Pa; 恢復真空度:從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞

◆ 真空抽氣系統(tǒng):機械泵與分子泵組成;

◆ 真空測量系統(tǒng):數(shù)顯復合真空計;

◆ 工作電源:真流電源500W;射頻電源500W﹝13.56MHz﹞;加熱控溫電源;

◆ 工作烘烤溫度:室溫~800℃可控可調﹝PID控溫﹞;

◆ 選配件:石英晶振測厚儀,冷卻水機組等;

◆ 供電電源:三相AC380V,50Hz

◆ 特殊規(guī)格可定制。

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