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多靶磁控濺射鍍膜機 DH500JJC

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更新時間：2022-11-14 16:34:23瀏覽次數(shù)：203次

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產(chǎn)品簡介

DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層工能膜-各種硬質(zhì)膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機為前開門式設(shè)計，功能強，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定，重復性好，操作簡便。DH500JJC磁控濺射鍍膜機.DH500JJC磁控濺射鍍膜機.DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機.多靶磁控濺射鍍膜機

詳細介紹

DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機

DH500JJC多靶磁控濺射鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米級和微米級的單層及多層工能膜-各種硬質(zhì)膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。

該鍍膜機為前開門式設(shè)計，功能強，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定，重復性好，操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材質(zhì)SUS304不繡鋼材料制造，工藝規(guī)范，精致，保證了材料的成膜純度。

采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組，具有抽速快，無油，操作方便快捷，易于維護的特點。

◆ 鍍膜方式：可實現(xiàn)多靶共濺模式

◆ 磁控靶：圓柱/平面靶；

◆ 進氣系統(tǒng)：三路質(zhì)量流量計；

◆ 鍍膜室體積：500×500×600mm³

◆ 極限真空度：6.7×10^-5Pa; 恢復真空度：從大氣抽到6.7×10^-4Pa;﹝40分鐘﹞

◆ 真空抽氣系統(tǒng)：機械泵與分子泵組成；

◆ 真空測量系統(tǒng)：數(shù)顯復合真空計；

◆ 工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；

◆ 工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞；

◆ 選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等；

◆ 供電電源：三相AC380V，50Hz

◆ 特殊規(guī)格可定制。

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