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更新時(shí)間：2022-11-04 15:33:18瀏覽次數(shù)：412次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)全自動(dòng)臺(tái)階儀P170
P-170是cassette-to-cassette探針式輪廓儀，將行業(yè)的P-17臺(tái)式系統(tǒng)的測(cè)量性能和經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的HRP®-260的機(jī)械傳送臂相結(jié)合。 這樣的組合為機(jī)械傳送臂系統(tǒng)提供了極低的擁有成本，適用于半導(dǎo)體，化合物半導(dǎo)體和相關(guān)行業(yè)。 P-170可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量，其掃描可達(dá)200mm而無(wú)需圖像拼接。
該系統(tǒng)結(jié)合了UltraLite®傳感器、恒力控制和超平掃描平臺(tái)，因而具備出色的測(cè)量穩(wěn)定性。通過(guò)點(diǎn)擊式平臺(tái)控制、頂視和側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)以及帶光學(xué)變焦的高分辨率相機(jī)等功能，程序設(shè)置簡(jiǎn)便快速。P-170具備用于量化表面形貌的各種濾鏡、調(diào)平和分析算法，可以支持2D或3D測(cè)量。并通過(guò)圖案識(shí)別、排序和特征檢測(cè)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。
P-170可以提供納米級(jí)到1000μm的2D和3D臺(tái)階高度的測(cè)量。 這使其能夠量化在蝕刻，濺射，SIMS，沉積，旋涂，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。P-170具有恒力控制功能，無(wú)論臺(tái)階高度如何都可以動(dòng)態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。 這保證了良好的測(cè)量穩(wěn)定性并且能夠精確測(cè)量諸如光刻膠等軟性材料。
P-170提供2D和3D紋理測(cè)量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測(cè)量值分為粗糙度和波紋度部分，并計(jì)算諸如均方根（RMS）粗糙度之類(lèi)的參數(shù)。
P-170可以測(cè)量表面的2D形狀或翹曲。這包括對(duì)晶圓翹曲的測(cè)量，例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因。P-170還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。
P-170能夠測(cè)量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。使用應(yīng)力卡盤(pán)將樣品支撐在中性位置并精確測(cè)量樣品翹曲。 然后通過(guò)應(yīng)用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來(lái)計(jì)算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過(guò)在直徑達(dá)200mm的樣品上通過(guò)單次掃描測(cè)量，無(wú)需圖像拼接。3D應(yīng)力的測(cè)量采用多個(gè)2D掃描，并結(jié)合θ平臺(tái)在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對(duì)整個(gè)樣品表面進(jìn)行測(cè)量。
缺陷復(fù)查用于測(cè)量如劃痕深度之類(lèi)的缺陷形貌。 缺陷檢測(cè)設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫(xiě)入KLARF文件。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件、對(duì)準(zhǔn)樣本，并允許用戶(hù)選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測(cè)量。
P-170有多種探針可用于支持臺(tái)階高度、高縱橫比步長(zhǎng)、粗糙度、樣品翹曲和應(yīng)力的測(cè)量。 探針半徑范圍從40nm到50μm，并決定了測(cè)量的橫向分辨率。 夾角范圍為20到100度，這決定了測(cè)量特征的縱橫比。 所有探針均采用金剛石制造，以減少磨損并延長(zhǎng)其使用壽命。
P-170提供一系列樣品卡盤(pán)可支持各種樣品類(lèi)型。 標(biāo)準(zhǔn)卡盤(pán)是支持75至200毫米的樣品測(cè)量的真空吸盤(pán)。 應(yīng)力卡盤(pán)配有3點(diǎn)定位器，可將樣品支撐在中性位置，以便進(jìn)行精確的翹曲測(cè)量。 此外還提供翹曲晶圓樣品處置的附加選項(xiàng)。
P-170機(jī)械傳送臂包含用于不透明晶圓（例如，GaAs）的對(duì)準(zhǔn)器和用于200mm晶圓的晶圓盒工作站。 選項(xiàng)還包括透明樣品對(duì)準(zhǔn)（例如，藍(lán)寶石）、75mm至150mm的較小樣品、第二個(gè)晶圓盒工作站，晶圓盒狹縫映射器、信號(hào)塔和離子發(fā)生器。
P-170配置了TMC 68-500系列獨(dú)立式隔離工作臺(tái)，它采用空氣隔離裝置提供被動(dòng)隔離。 這是一個(gè)符合SEMI S8人體工程學(xué)要求的定制隔離工作臺(tái)，其鍵盤(pán)、鼠標(biāo)、顯示器和晶圓盒工作站都處于正確的人體工程學(xué)高度。
P-170采用VLSI標(biāo)準(zhǔn)提供的薄膜和厚膜NIST可追蹤臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)采用安裝在石英塊上的硅芯片上的氧化物臺(tái)階，或者有鉻鍍層的蝕刻石英臺(tái)階。還提供200mm基于晶圓的臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)。臺(tái)階高度的測(cè)量范圍是8nm至250μm。
Apex分析軟件通過(guò)提供調(diào)平、濾鏡、臺(tái)階高度、粗糙度和表面形貌分析技術(shù)的擴(kuò)展套件，增強(qiáng)了P-170的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)分析能力。 Apex支持ISO粗糙度計(jì)算方法以及如ASME之類(lèi)的本地標(biāo)準(zhǔn)。 Apex還可用作報(bào)告編寫(xiě)平臺(tái)，具有添加文本、注釋和是/否合格的準(zhǔn)則。 Apex提供八種語(yǔ)言的版本。
P-170離線(xiàn)軟件具有與設(shè)備軟件相同的數(shù)據(jù)分析和配方創(chuàng)建功能。 這使用戶(hù)無(wú)需占用寶貴的設(shè)備時(shí)間即可創(chuàng)建配方并分析數(shù)據(jù)。
圖案識(shí)別使用預(yù)先習(xí)得的圖案自動(dòng)對(duì)樣本進(jìn)行對(duì)齊。 通過(guò)減少人為錯(cuò)誤的影響，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量并提高測(cè)量的穩(wěn)定性。 圖案識(shí)別與高級(jí)校準(zhǔn)相結(jié)合，可減少平臺(tái)定位誤差，并實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)間配方的無(wú)縫傳輸。
SECS/GEM和HSMS通信對(duì)工廠自動(dòng)化系統(tǒng)提供支持并實(shí)現(xiàn)P-170的遠(yuǎn)程控制。測(cè)量結(jié)果以及報(bào)警和關(guān)鍵校準(zhǔn)/配置數(shù)據(jù)會(huì)自動(dòng)報(bào)告給主機(jī)SPC系統(tǒng)。P-170符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)E4、E5、E30和E37。
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