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電鏡樣品等離子清洗機(jī) 實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

電鏡樣品等離子清洗機(jī) GV/GA是用于清洗和儲(chǔ)存SEM&TEM電鏡桿的高真空處理腔。

詳細(xì)介紹

電鏡樣品等離子清洗 & 高真空樣品保護(hù)腔 GV/GA

GV/GA是用于清洗和儲(chǔ)存SEM&TEM電鏡桿的高真空處理腔。使用A05型GV/GA DS等離子清洗器可以極大的減少EM腔體中沉積的碳?xì)浠衔镂廴尽?br />
GV10x安裝在灰化器上，通過(guò)等離子灰化處理，EM腔體的污染能得到明顯改善。通過(guò)溫和的氧離子灰化處理可對(duì)樣品和TEM電鏡桿表面進(jìn)行很好的清洗且不對(duì)樣品產(chǎn)生損傷，詳細(xì)介紹參考文獻(xiàn)： Cleaning TEM Samples on Carbon Films Microscopy-Today January 2014 for a detailed discussion.

等離子清洗機(jī)通過(guò)加速離子從而達(dá)到濺射或者刻蝕樣品，而GV/GA中使用氧原子或氫原子通過(guò)化學(xué)反應(yīng)消除碳?xì)浠衔铩Ｕ麄€(gè)過(guò)程中并沒有熱量或者離子轟擊產(chǎn)生。氧氣將碳?xì)浠衔镛D(zhuǎn)化為CO2 CO 或 H2O分子從而通過(guò)真空泵抽走。因此，整個(gè)處理過(guò)程能有效消除碳?xì)浠衔锒^不會(huì)損壞樣品。

建議使用60l/m的真空泵和80l/s的TMP。

Bench Top A05 GA Chamber P5 Source 2U A05 GA Chamber P5 Source

特點(diǎn)：

• 新型腔體 A05結(jié)合GV10X等離子清洗機(jī)使用，使用兩種控制器，Bench Top可以直接在控制器上設(shè)置參數(shù)。2U需要連接電腦使用
• 適用于所有TEM的電鏡樣品桿
• 適用于從腔體前面插入清洗
• 可同時(shí)清洗和保存3個(gè)電鏡桿
• 有效保存樣品防止高分辨率成像退化
• 防止樣品因SEM&TEM腔體污染導(dǎo)致內(nèi)部顯微結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生氣相
• 操作簡(jiǎn)單，使用極為方便。

關(guān)鍵詞：等離子清洗機(jī) 真空泵

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