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林賽斯（上海）儀器設(shè)備有限公司


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TF-LFA 薄膜激光導熱儀 ——可測80nm——20μm 薄膜熱物理性質(zhì)

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更新時間：2022-12-04 16:38:58瀏覽次數(shù)：591次

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產(chǎn)品簡介

材料的熱物理性質(zhì)以及最終產(chǎn)品的傳熱優(yōu)化在工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域變得越來越重要。

詳細介紹

材料的熱物理性質(zhì)以及最終產(chǎn)品的傳熱優(yōu)化在工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域變得越來越重要。

??經(jīng)過幾十年的發(fā)展，閃射法已經(jīng)成為常用的用于各種固體、粉末和液體熱導率、熱擴散系數(shù)的測量方法。

薄膜熱物性在工業(yè)產(chǎn)品中正變得越來越重要，如：相變光盤介質(zhì)、熱電材料、發(fā)光二極管（LED ） ，相變存儲器、平板顯示器以及各種半導體。在這些工業(yè)領(lǐng)域中，特定功能沉積膜生長在基底上以實現(xiàn)器件的特殊功能。由于薄膜的物理性質(zhì)與塊體材料不同，在許多應(yīng)用中需要專門測定薄膜的參數(shù)。

??基于已實現(xiàn)的激光閃射技術(shù)，LINSEIS TF-LFA 薄膜導熱測試儀(Laserflash for thin films)可以測量80nm——20μm厚度薄膜的熱物理性質(zhì)。


1.瞬態(tài)熱反射法（后加熱前檢測（RF））:

由于薄膜材料的物理性質(zhì)與基體材料顯著不同，必需要有相應(yīng)的技術(shù)來克服傳統(tǒng)激光閃射法的不足，即瞬態(tài)熱閃射法。

? 測量模型與傳統(tǒng)激光閃射法相同：檢測器和激光器在樣品兩側(cè)?？紤]到紅外探測器測試薄膜太慢，因此檢測是通過熱反射方法完成的。該技術(shù)的原理是材料在加熱時，表面反射率的變化可最終用于推導出熱性能。測量反射率隨時間的變化，得到的數(shù)據(jù)代入包含的系數(shù)模型里面并快速計算出熱性能。

2. 時域熱反射法（前加熱前檢測（FF））:

時域熱反射技術(shù)是另一種測試薄層或薄膜熱性能（熱導率，熱擴散率）的方法。測量方式的幾何構(gòu)造被稱為“前加熱前檢測（FF）"，因為檢測器和激光在樣品上的同一側(cè)。該方法可以應(yīng)用于非透明基板上不適合使用RF技術(shù)的薄膜層。


3. 瞬態(tài)熱反射法（RF）和時域熱反射法（FF）相結(jié)合:

兩種方法可以集成在一個系統(tǒng)中并實現(xiàn)兩者優(yōu)點的結(jié)合。

型號

TF-LFA

溫度范圍

RT

RT 至 500℃

-100℃ 至 500℃

加熱速率

0.01 至 10 K/min

激光器

Nd:YAG Laser

脈沖電流

90 mJ/Implus（軟件控制）

脈寬

8ns

激光探頭

CW DPSS-Laser (473 nm), 50 mW

感光器

Si-PIN-Photodiode，有效直徑：0.8mm，

直流電壓…400MHz，響應(yīng)時間：1ns

測量范圍

0.01 mm2/s 至1000 mm2/s

樣品直徑

圓形樣品 ∅ 10 至 20 mm

樣品厚度

80 nm 至 20 µm

氣氛

還原，氧化，惰性

真空度

高至 10 E-4mbar


所有的LINSEIS熱分析設(shè)備都是用計算機控制的，各個軟件模塊僅在Microsoft® Windows®操作系統(tǒng)上運行。完整的軟件包括3個模塊：溫度控制，數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)分析。與其他熱分析系統(tǒng)一樣，該32位Linseis軟件可以實現(xiàn)所有測量準備、實施和評估的基本功能。

特點

  • 全兼容MS® Windows™ 的32位軟件
  • 在斷電的情況下數(shù)據(jù)安全
  • 熱電偶斷線保護
  • 實時測量分析
  • 測量曲線比較
  • 存儲和分析結(jié)果輸出
  • 數(shù)據(jù)ASCII碼的導出和導入
  • 數(shù)據(jù)生成到MS Excel

評估軟件

  • 相關(guān)測試參數(shù)的自動或手工輸入：密度、比熱
  • 模型向?qū)В哼x擇合適的模型
  • 接觸電阻的測定

測量軟件

  • 簡單和友好的數(shù)據(jù)輸入界面：溫度段、氣體等
  • 軟件自動顯示電能脈沖后的測量校正
  • 全自動測量
暫無

材料

陶瓷/玻璃/建材，金屬/合金，無機物。

工業(yè)領(lǐng)域

陶瓷，建材和玻璃工業(yè)，汽車/航空/航天，發(fā)電/能源，企業(yè)研發(fā)和學術(shù)科研，金屬/合金工業(yè)，電子工業(yè)。

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