漏電起痕試驗(yàn)儀 BLD-600V耐電痕化高壓漏電起痕北廣精儀
BLD-600V 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)NanoTest Vantage
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更新時(shí)間:2023-06-16 15:25:48瀏覽次數(shù):273次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線英國(guó)MML微納米材料力學(xué)性能綜合測(cè)試系統(tǒng)NanoTestVantage標(biāo)準(zhǔn)配置模塊及技術(shù)指標(biāo):1.NanoTestVantage測(cè)試平臺(tái)1.1.高剛度花崗巖測(cè)試平臺(tái)
英國(guó)MML 微納米材料力學(xué)性能綜合測(cè)試系統(tǒng) NanoTest Vantage
標(biāo)準(zhǔn)配置模塊及技術(shù)指標(biāo):
1. NanoTest Vantage 測(cè)試平臺(tái)
高剛度花崗巖測(cè)試平臺(tái),采用線性編碼器的自動(dòng)樣品驅(qū)動(dòng)
1. 精密移動(dòng)樣品、實(shí)現(xiàn)樣品在顯微鏡和載荷壓頭之間的自動(dòng)切換
2. X 方向分辨率和移動(dòng)范圍:?m/50mm
3. Y 方向分辨率和移動(dòng)范圍:?m/400mm
4. Z 方向分辨率和移動(dòng)范圍:?m/50mm
5. 樣品厚度:150mm
6. 用戶能夠同時(shí)放置多個(gè)樣品,樣品之間的高度差可達(dá) 40mm
振動(dòng)隔離系統(tǒng)[防震臺(tái)]
1. 共振頻率: Hz
2. 全機(jī)械式的、無(wú)源系統(tǒng) passive system
3. 無(wú)需壓縮空氣,免維護(hù)
Dell 計(jì)算機(jī):
1. GHz 雙核處理器、2GB RAM、160GB 硬盤或者更好
2. 兩個(gè) 17 英寸 LCD 平板顯示器
3. 256mB ATI 雙視頻輸入(DVI/VGA)圖形卡
4. Dell 技術(shù)支持:3 年隔天現(xiàn)場(chǎng)保修服務(wù)
Platform 4 軟件包:用于儀器控制、試驗(yàn)設(shè)計(jì)和數(shù)據(jù)分析:
1. 密碼管理、兩級(jí)進(jìn)入:
標(biāo)準(zhǔn)級(jí)別:常規(guī)工作、允許受限制的試驗(yàn)定義
管理員級(jí)別:可以定義特殊的試驗(yàn)、儀器校準(zhǔn)和設(shè)置
2. 存盤或者調(diào)出以前的試驗(yàn)設(shè)置用于快速的重復(fù)試驗(yàn)
3. 可以定義多達(dá) 100 個(gè)試驗(yàn) (每個(gè)試驗(yàn)包含 400 點(diǎn)陣)、試驗(yàn)按序自動(dòng)測(cè)試
4. 所有數(shù)據(jù)是以原始數(shù)據(jù)的格式存盤并用于隨后的試驗(yàn)分析
5. 記錄試驗(yàn)參數(shù),并可用于隨后的檢查和編輯
6. 試驗(yàn)數(shù)據(jù)允許多種文件格式輸出、用于第三方的應(yīng)用
7. 通過(guò) Micro Materials Ltd (MML)網(wǎng)站實(shí)現(xiàn)免費(fèi)的軟件升級(jí)
8. 允許免費(fèi)從 Micro Materials Ltd (MML)網(wǎng)站下載額外的分析軟件用于遠(yuǎn)程的數(shù)據(jù)分析
2.納米力學(xué)測(cè)試錘
采用線圈/永磁體的高精度電磁驅(qū)動(dòng)加載系統(tǒng)
載荷指標(biāo):
2. 載荷:500mN
2. 載荷分辨率:3nN
3. 典型的噪音水平:
4. 最小接觸力:?1 ?N, 用戶根據(jù)不同的樣品通過(guò)軟件來(lái)設(shè)置為 0
位移測(cè)量采用校準(zhǔn)的電容位移傳感器
位移指標(biāo):
1. 位移:20μm 或者 100µm (客戶任選)
2. 位移分辨率:
3. 典型的位移噪音水平:
位移熱漂移速度: /s 或者更好
儀器框架剛度:?5x106 N/m
熔融 SiO2 標(biāo)準(zhǔn)樣品用于儀器性能監(jiān)測(cè)
符合 ISO 14577-1,2,3,4 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn); 用戶自己可以對(duì)儀器進(jìn)行載荷、深度、金剛石探頭面積函數(shù)和框架柔性等 4 項(xiàng) ISO 14577 規(guī)定的基礎(chǔ)指標(biāo)進(jìn)行標(biāo)定
3. 微米力學(xué)測(cè)試錘 [可以將一臺(tái)儀器擴(kuò)展兩臺(tái)儀器:可以完成納米力學(xué)和微米力學(xué)測(cè)試]
采用線圈/永磁體的高精度電磁驅(qū)動(dòng)加載系統(tǒng)
微米力學(xué)測(cè)試錘/加載頭性安裝在納米力學(xué)測(cè)試錘/加載頭旁邊、隨時(shí)可用
載荷指標(biāo):
3. 載荷:20N
3. 載荷分辨率:50nN 或 更好
3. 典型的噪音水平:100nN
位移測(cè)量采用可追蹤、校準(zhǔn)的平行板電容器
位移指標(biāo):
1. 位移:100μm
2. 位移分辨率:
熱漂移速率: /s 或更好
鋼標(biāo)準(zhǔn)樣品用于儀器的性能監(jiān)測(cè)
4. 納米壓痕測(cè)試模塊
MML 軟件自動(dòng)分析程序用于測(cè)量:
4. 硬度
4. 模量
3. 硬度和模量 vs(壓入)深度曲線
4. 長(zhǎng)期蠕變
5. 塑性功和彈性功、塑性指數(shù)
6. 應(yīng)力/ 應(yīng)變信息
4. 推出力
4. 微米柱壓縮力
可以獲得并顯示:
4. 未經(jīng)修正的原始數(shù)據(jù)
4. 統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)和歸一化的數(shù)據(jù)
4. 硬度和模量 2D 和 3D 圖
Berkovich 金剛石壓頭 (更換時(shí)間
提供完整的可編譯的加載和卸載速率以及接觸速度
控制載荷和深度的試驗(yàn),可以設(shè)定深度、載荷或者次測(cè)試結(jié)束條件等選項(xiàng)。
程序加載/卸載軟件模塊允許在同一個(gè)壓入位置執(zhí)行多次的加載/卸載循環(huán),獲得硬度/模量隨深度的變化信息。
壓痕試驗(yàn)采用線性加載速率,可以獲得恒定應(yīng)變速率的壓痕試驗(yàn)。
程序可以在一個(gè)或者多個(gè)樣品的位置,定義多達(dá) 100 個(gè)試驗(yàn),每個(gè)試驗(yàn)包含 400 壓入點(diǎn)陣,試驗(yàn)會(huì)在設(shè)定的時(shí)間點(diǎn)自動(dòng)啟動(dòng)、執(zhí)行,因此保證儀器能夠 24 小時(shí)/7 天基礎(chǔ)上的連續(xù)運(yùn)行,獲得的測(cè)試能力。
兼容低載荷(納米力學(xué)測(cè)量)和高載荷(微米力學(xué)測(cè)量),實(shí)現(xiàn)二者滿載荷量程的測(cè)量。低載荷(納米力學(xué)測(cè)量)和高載荷(微米力學(xué)測(cè)量)各配備一個(gè)專用的 Berkovich 金剛石壓頭。
四:選件模塊及其技術(shù)指標(biāo)
以下部件可以在初次采購(gòu)設(shè)備時(shí)一并購(gòu)買,也可將來(lái)升級(jí)
5. 納米劃痕和磨損(納米摩擦學(xué))模塊
兼容低載荷(納米力學(xué)測(cè)量)和高載荷(微米力學(xué)測(cè)量),實(shí)現(xiàn)二者滿載荷量程的測(cè)量。
(納米力學(xué)測(cè)量)加載力:500mN。
頂端半徑為 5μm 的球形金剛石劃頭(或者其他類型的測(cè)試探頭)。
劃擦速率范圍: to 100µm/s。
可設(shè)定的載荷變化速率。
磨損測(cè)試模式允許 “加載"或“卸載"深度 vs 劃擦距離曲線。
程序可以在一個(gè)或者多個(gè)樣品的位置,設(shè)定的時(shí)間點(diǎn)自動(dòng)啟動(dòng)、執(zhí)行多次形貌和劃痕試驗(yàn)。
預(yù)覽按鈕(preview button)可以在試驗(yàn)設(shè)置時(shí),調(diào)節(jié)并優(yōu)化掃描速度、掃描長(zhǎng)度、加載速率和劃擦載荷。
可以獲得并顯示的劃痕數(shù)據(jù):
1. 未經(jīng)處理的原始數(shù)據(jù)。
2. 臨界劃擦載荷。
3. 載荷/深度 vs 距離曲線。
摩擦力測(cè)量單元:
5.1.加載力:200mN。
2.典型摩擦載荷分辨率:10µN.
3.掃描長(zhǎng)度:10mm.
4.配有溫度補(bǔ)償傳感器的摩擦力傳感器。
超穩(wěn)定摩擦力測(cè)量
6.可以獲得并顯示的摩擦力摩擦力數(shù)據(jù):
表面粗糙度統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)
摩擦系數(shù) vs 時(shí)間曲線。
6. 納米沖擊和疲勞測(cè)試模塊
包括如下兩種納米沖擊標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法:
6. 高周疲勞納米沖擊測(cè)試
6. 擺錘脈沖模式
高周疲勞納米沖擊測(cè)試可在一點(diǎn)或多點(diǎn)進(jìn)行沖擊測(cè)試;包括壓電驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)振動(dòng)、信號(hào)發(fā)生器、信號(hào)擴(kuò)大器和數(shù)據(jù)分析,完成沖擊和接觸疲勞測(cè)試。
6. 壓電驅(qū)動(dòng)樣品振動(dòng)。與壓頭施加的靜載荷的大小,疲勞或沖擊研究有關(guān)
6. 頻率范圍 500Hz
6. 振幅 5μm
擺錘脈沖模式可定量測(cè)量在粘結(jié)失效前的總能量;可用于低周疲勞以獲取材料的韌性。另外,也可完成加速疲勞磨損和動(dòng)態(tài)硬度測(cè)試。
6. 系統(tǒng)用 A/C 螺線管控制擺錘運(yùn)動(dòng)的頻率、振幅和加速度。
6. 動(dòng)態(tài)硬度測(cè)試和納米沖擊的頻率:Hz
6. 靜態(tài)加載:100mN
6. 加速距離:36μm [納米沖擊]、90μm [微米沖擊]。
可以在單次試驗(yàn)進(jìn)程中預(yù)設(shè)定獲取 100 次試驗(yàn)(每次試驗(yàn)至少包括 100 個(gè)數(shù)據(jù)分析點(diǎn))。
這一測(cè)試模塊可用于獲取金屬材料、陶瓷
包括一個(gè)方形金剛石壓頭。
7. 微震磨損模塊
往復(fù)的納米抗磨,適用于橫向振蕩,同時(shí)保持恒定的法向力
測(cè)量參數(shù):
7. 傳統(tǒng)的微震磨損
7. 由微震磨損過(guò)渡到小范圍劃動(dòng)摩擦
7. 單層或多層涂層的連續(xù)磨損機(jī)制
頻率范圍:5-20Hz
微震磨損軌跡:5?m
劃痕軌跡:20 ?m
載荷范圍:1-500mN(納米力學(xué)測(cè)試)
壓頭為大曲率半徑的球形壓頭(200µm 直徑)
8. DMA 動(dòng)態(tài)力學(xué)性能測(cè)量
對(duì)于存儲(chǔ)模量和損耗模量的測(cè)試,壓痕測(cè)試會(huì)使得彈性系數(shù)和彈性模量的獲取變得復(fù)雜,而彈性系數(shù)和彈性模量是聚合物樣品表面/近表面的能量阻尼性能指示參數(shù)
固定在放大器和樣品振動(dòng)系統(tǒng)上以在樣品表面進(jìn)行震動(dòng),并允許在連續(xù)的基底上進(jìn)行測(cè)試
振蕩頻率范圍:Hz~250Hz
振幅:亞 nm~50nm
只與納米力學(xué)測(cè)試模塊兼容
9. 500℃高溫樣品控制系統(tǒng)
加熱溫度:500?C
壓頭和樣品獨(dú)立控溫,壓頭和樣品是等溫接觸,測(cè)試過(guò)程中沒(méi)有熱流
溫度控制系統(tǒng),確保壓頭和樣品接觸前處于熱平衡狀態(tài)
配有加熱擋板,以減少對(duì)儀器其余部位的熱輻射
帶有加熱器的 Berkovich 壓頭
測(cè)量區(qū)域范圍:16mm x 16mm
500 ?C 下位移熱漂移速度:? nm/sec.
兼容壓痕測(cè)試、劃痕測(cè)試和沖擊測(cè)試模塊.
10. 高溫?cái)U(kuò)展模塊(第二根擺錘)
1.針對(duì)第二根擺錘的熱輻射擋板
高溫壓頭一個(gè)
11. 高溫?cái)U(kuò)展模塊(750?C)
1溫控區(qū)間:500°C ~ 750°C
1氮化硼壓頭,獨(dú)立的壓頭加熱器
水循環(huán)冷卻系統(tǒng)
只適用于納米力學(xué)測(cè)試模塊
推薦同時(shí)配備氣氛保護(hù)模塊
12. 氣氛保護(hù)
1通入保護(hù)氣體以減少測(cè)試環(huán)境中氧或水分的含量
1專門的氣體管路,可以使用 N2 或 Ar
1一套氧檢測(cè)器,監(jiān)控測(cè)試環(huán)境中的氧含量
13. 液體樣品池
1硼硅酸鹽玻璃液體池和壓頭適配器,保證樣品和壓頭浸入液體中進(jìn)行測(cè)試
1系統(tǒng)自動(dòng)切換進(jìn)行預(yù)存儲(chǔ)的液體校準(zhǔn)
1包括 Berkovich 壓頭。
18. 3D 原位成像
1提供原位 3D 表面成像。
1與高溫樣品臺(tái)兼容。
1高精度 X,Y 臺(tái)分辨率:2nm。
1分析軟件提供 2D 和 3D 圖、平滑、體積分析、粗糙度分析、表面積分析和很多其他的功能。
1X,Y 掃描范圍:100µm x 100µm。
, Y 樣臺(tái)分辨率: 2 nm
閉環(huán)線性:%
可以 ASCII 文件的方式輸出到第三方圖像分析軟件包。
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