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上海宙興實(shí)業(yè)有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
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更新時(shí)間:2023-09-26 09:52:28瀏覽次數(shù):214次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線多晶X射線衍射儀用于晶體物質(zhì)結(jié)構(gòu)定性定量分析
多晶X射線衍射儀
用于晶體物質(zhì)結(jié)構(gòu)定性定量分析。該產(chǎn)品設(shè)計(jì)精密,硬件、軟件功能齊全,靈活適應(yīng)各種物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的測(cè)試、分析和研究,其技術(shù)水平已達(dá)到國(guó)內(nèi)水平。產(chǎn)品采用了θ-θ測(cè)角儀立式、中空軸、射線管座與測(cè)角臺(tái)一體化的結(jié)構(gòu),可對(duì)粉末、大塊不規(guī)則固體、液體樣品進(jìn)行測(cè)試。
結(jié)構(gòu)新,采用*的立式測(cè)角儀結(jié)構(gòu),更加方便的樣品放置方式,對(duì)于操作、維護(hù)的工作力度大為簡(jiǎn)化,更加直觀的使用,便于清理實(shí)驗(yàn)后的樣品臺(tái)。
采用細(xì)分驅(qū)動(dòng)電源技術(shù),精度高,重現(xiàn)性達(dá)到0.0006°、測(cè)量重復(fù)性0.001°、最小步進(jìn)角度0.0005°;
進(jìn)口NaI閃爍晶體計(jì)數(shù)探測(cè)器,分辨率及長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性好;
X射線管套采用整體銅棒材加工定位精度、射線防護(hù)性更好;采用了轉(zhuǎn)輪式快門,開(kāi)關(guān)速度更快,故障率更低,射線阻斷性更好,機(jī)柜外輻射劑量低于0.2μSv/h(國(guó)標(biāo)規(guī)定要求低于2.5μSv/h);
X射線光源的數(shù)字控制電路作了進(jìn)一步的改善,X光機(jī)的工作功率由計(jì)算機(jī)遙控設(shè)定。高壓與管流的加載過(guò)程受微電腦控制自動(dòng)操作,使用更加簡(jiǎn)單,運(yùn)行更加可靠;
中文視窗操作界面,全新改版的PDP衍射數(shù)據(jù)處理軟件包。在數(shù)據(jù)輸出多樣性方面作了重大改進(jìn)。
配置名稱 | 2/3 | |
X射線管 (Cu靶國(guó)產(chǎn)) | 種類 | Cu靶,NF型(其它靶材可選) |
功率 | 2.0kW | |
焦點(diǎn) | 1.0×10mm2 | |
X射線發(fā)生器 | 輸出 | 4KW |
X光管電壓 | 15~60kV,1kV /Step | |
X光管電流 | 6~80mA,1mA /Step | |
管電壓、管電流穩(wěn)定度 | ≤0.01%(電源低壓浮動(dòng)10%) | |
測(cè)角儀 | 測(cè)角儀結(jié)構(gòu) | θs-2θd(XD2) θs-θd(XD3) |
測(cè)角儀掃描半徑 | 180mm | |
掃描角度范圍 | -30~80°(θs) -30~160°(θd) | |
工作方式 | 連續(xù)掃描、定時(shí)步進(jìn)掃描、定數(shù)步進(jìn)掃描 | |
連續(xù)掃描速度 | 0.125~120°/min | |
轉(zhuǎn)速 | 120°/min | |
2θ角重復(fù)精度 | ≤0.0006° | |
最小步進(jìn)角度 | 0.0005° | |
測(cè)量準(zhǔn)確度 | ≤0.001° | |
發(fā)散狹縫(DS) | 1/6°、1/2°、1°、2° | |
防散射狹縫(SS) | 1/2°、1°、2° | |
接收狹縫(RS) | 0.1,0.15,0.3,0.45,0.6,1,2mm | |
調(diào)整專用狹縫 | 0.02mm | |
檢測(cè)器 計(jì)數(shù)器 | 晶體類型 | NaI |
脈沖幅度分析器(HV/PHA) | 輸出高壓0~1000V,穩(wěn)定性≤0.01%(8h) | |
機(jī)柜 | 機(jī)柜尺寸(mm) | 1200(長(zhǎng))×400(寬)×1850(高) |
整機(jī)重量(kg) | 500 | |
觀察窗(mm) | 600(高)×400(寬)×10(厚)鉛玻璃 | |
X射線泄露量 | ≤0.1μSv/h(未扣除天然本底) | |
安全措施 | 門聯(lián)鎖保護(hù)(門到位置,光閘才打開(kāi),產(chǎn)生X射線) | |
濾波器 | Ni濾片 | 對(duì)應(yīng)Cu靶 |
石墨彎晶單色器 | 反射效率η≥28% | |
綜合指標(biāo) | 整機(jī)綜合穩(wěn)定度 | ≤0.3% |
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