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水冷銅坩堝感應(yīng)熔煉定向凝固提純?cè)O(shè)備

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產(chǎn)品簡介

「設(shè)備用途」采用物理冶金提純法，主要用于冶金級(jí)工業(yè)硅粉的提純，用以制備太陽能級(jí)多晶硅原材料

詳細(xì)介紹

「設(shè)備用途」

采用物理冶金提純法，主要用于冶金級(jí)工業(yè)硅粉的提純，用以制備太陽能級(jí)多晶硅原材料。

「技術(shù)指標(biāo)」

產(chǎn)品型號(hào)	VITD-2
主真空室	立式圓筒型真空室，尺寸φ1500×2400mm，雙層水冷。
真空系統(tǒng)配置	擴(kuò)散泵，羅茨泵，機(jī)械泵，高真空氣動(dòng)擋板閥。
極限真空度	6.6×10-3Pa（冷態(tài)），漏率：≤1×10-8Pa.L/s；壓升率：≤6.7×10-1Pa./m。
感應(yīng)熔煉系統(tǒng)	加熱溫度	≤1600℃。
	水冷坩堝尺寸	內(nèi)徑500mm高度600mm。
	坩堝容量	200kg。
	坩堝運(yùn)動(dòng)行程	600mm；具有歸零位功能；設(shè)有位置檢測采用數(shù)顯光柵尺，分辨率1微米。
	坩堝運(yùn)動(dòng)速度	5-50mm/h，快速升降速度：5mm/s。
在線加料系統(tǒng)	可在線添加輔助元素。
測溫系統(tǒng)	設(shè)有兩組測溫K偶。
感應(yīng)熔煉電源	400KW。