產(chǎn)品特點(diǎn)
配備技術(shù)自循環(huán)凈化裝置（UV-PLUS）的光學(xué)系統(tǒng)
SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)。采用優(yōu)化帕邢—龍格原理的“半殼"鑄造鋁框架技術(shù)提供了超常堅(jiān)固的機(jī)械結(jié)構(gòu)，同時(shí)減小了內(nèi)部容積。為減少外部環(huán)境的影響，光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部恒溫恒壓。
主光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部包括兩個(gè)的光譜模塊—光電管光學(xué)部分和CCD光學(xué)部分，各自配備一個(gè)原級(jí)全息光柵。第三光學(xué)系統(tǒng)是一個(gè)的空氣光學(xué)系統(tǒng)，將波長(zhǎng)范圍擴(kuò)展到780nm。的自循環(huán)凈化系統(tǒng)（UV-PLUS）用于測(cè)量紫外波段（UV）和遠(yuǎn)紫外波段（VUV）光譜。嚴(yán)格密封的光學(xué)室內(nèi)部充以氬氣，無需復(fù)雜的技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)紫外及遠(yuǎn)紫外光在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)不被吸收。分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)氬氣在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部和凈化裝置中循環(huán)?？梢员苊獠捎谜婵障到y(tǒng)產(chǎn)生的油蒸氣污染或流動(dòng)沖氣系統(tǒng)帶來的外部污染。保持潔凈的光學(xué)系統(tǒng)和優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性表現(xiàn)。UV-PLUS的優(yōu)點(diǎn)是較大程度降低了運(yùn)行成本，并且在120-180nm的遠(yuǎn)紫外光譜波段提供了出色的光學(xué)表現(xiàn)。
的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和UV-PLUS技術(shù)，使得創(chuàng)新的SPECTROLAB光學(xué)系統(tǒng)能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級(jí)相關(guān)光譜信息，CCD光學(xué)系統(tǒng)的光譜分辨率達(dá)到9皮米。
等離子發(fā)生器激發(fā)光源：新的研發(fā)的SPECTRO高效等離子發(fā)生器激發(fā)光源可以提供穩(wěn)定的火花放電。采用全數(shù)字信號(hào)發(fā)生和激發(fā)過程控制，激發(fā)區(qū)域的等離子能量可以高精度、高保真輸出。由于具備了全新的激發(fā)參數(shù)設(shè)置以及高純度的信號(hào)輸出，激發(fā)光源的精度得以明顯提析精度因此明顯提析周期較大程度縮短。對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用程序，每次分析時(shí)間不超過18秒。
分析性能
根據(jù)用戶需求，量身定制。十種標(biāo)準(zhǔn)基體鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅,可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀和釕組合配置。在 CCD 光學(xué)系統(tǒng)中可以實(shí)現(xiàn)120-780nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)所有元素的全譜記錄。在光電管光學(xué)系統(tǒng)中多可以放置108個(gè)高性能光電備增管通道，每個(gè)通道配有微積分器（TRS功能）和單火花評(píng)估（SSE功能）。由此可以保證每一分析要求得以佳化滿足。配備新現(xiàn)代化的光譜技術(shù)和高質(zhì)量的組成部件，SPECTROLAB適用于各種分析要求。出眾的分析性能與高度靈活性相結(jié)合，能夠勝任諸如：過程控制分析，來料及成品檢驗(yàn)，研究開發(fā)部門、檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)等各方面分析任務(wù)。
讀出系統(tǒng)
新設(shè)計(jì)的讀出系統(tǒng)可以同時(shí)處理來自光電管檢測(cè)器和CCD檢測(cè)器的信號(hào)。共有22塊（加第三光學(xué)系統(tǒng)共37塊）CCD檢測(cè)器，每個(gè)CCD包括3800像素，類似全譜波長(zhǎng)掃描，測(cè)量后大量數(shù)據(jù)結(jié)果可以集中顯示。這為材料研究（如未知材料判定，新合金配方等）提供了新的分析手段。日常分析過程基于選定的光譜線，只有元素的信號(hào)被采集。這可以實(shí)現(xiàn)瞬時(shí)信號(hào)的實(shí)時(shí)采集。分析結(jié)果可以取自整個(gè)測(cè)量過程中某一時(shí)序的瞬時(shí)信號(hào)測(cè)定。根據(jù)應(yīng)用要求，某些光譜線采用光電倍增管測(cè)量。光電流由微積分器處理，可以實(shí)現(xiàn)微秒級(jí)測(cè)量，每一單個(gè)火花放電過程可進(jìn)行100次以上的步進(jìn)測(cè)量，每個(gè)光電管通道的光譜峰值由步進(jìn)過程描跡而成。實(shí)現(xiàn)這些步進(jìn)過程測(cè)量以后，就可以根據(jù)需要定義測(cè)量“窗口"為其中某一時(shí)段動(dòng)態(tài)范圍或較好信背比時(shí)段（痕量火花分析技術(shù)SAFT）,用以分析微量元素。相對(duì)于傳統(tǒng)的積分測(cè)量技術(shù)，現(xiàn)在可以測(cè)量每一單個(gè)火花的放電信號(hào)，而不是將千百次火花放電的總信號(hào)量積分成一個(gè)總量。由此實(shí)現(xiàn)剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗"放電信號(hào)。SSE單火花評(píng)價(jià)技術(shù)可以明顯提較高的析性能?？梢园凑辗治鲆蠓謩e定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能，也可以在一個(gè)分析周期內(nèi)多次定義。這一靈活性可以在短的分析時(shí)間內(nèi)獲得佳分析結(jié)果。
技術(shù)參數(shù)
多光學(xué)系統(tǒng)：帕邢—龍格結(jié)構(gòu)，光柵焦距 750 mm，羅蘭圓，光學(xué)系統(tǒng)恒溫
分析波長(zhǎng)范圍：120-780 nm
的氬氣自動(dòng)循環(huán)氣體凈化系統(tǒng)，用于分析小于200 nm波長(zhǎng)的譜線
光路氬氣沖洗系統(tǒng)
全息原級(jí)光柵 3600，2924線／毫米
光柵材料：微晶石英
主光學(xué)系統(tǒng)：3600線／毫米光柵，0.37 nm／mm (1級(jí)光譜)2924線／毫米光柵，0.46／0.23 nm／mm(1／2 級(jí)光譜)第三光學(xué)系統(tǒng)400 mm焦距2400線／毫米光柵，1.04 nm／mm (1級(jí)光譜)
熱量吸收裝置，無需水冷卻
采光快門優(yōu)化觀測(cè)角度激發(fā)系統(tǒng)：全數(shù)字等離子發(fā)生器。數(shù)字放電參數(shù)設(shè)定，數(shù)字脈沖發(fā)生器，數(shù)字離線脈沖控制，32MHz微處理器控制，采樣速率：200微秒400次，能量分辨率：125毫瓦，長(zhǎng)單次火花放電時(shí)間：4000微秒，火花功率：4千瓦
光電管和CCD系統(tǒng)平行運(yùn)行，平行12 Bit模數(shù)轉(zhuǎn)換器，每個(gè)信道1 MHz
系統(tǒng)和操作過程自動(dòng)診斷
外置計(jì)算機(jī)控制：Windows操作系統(tǒng) 鍵盤和鼠標(biāo) 打印機(jī)
電源要求：230 VAC -15％／+10％，50 HZ
待機(jī)功率 0.5 kVA 激發(fā)功率 1.0 kVA 16 A 慢熔保險(xiǎn)絲
儀器尺寸：1674× 771× 1409毫米(長(zhǎng)×寬×高)
重量：重約520kg(不包括附屬設(shè)備)
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