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磁控濺射鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間：2023-06-30 18:34:00瀏覽次數(shù)：330次

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湖南艾科威半導(dǎo)體裝備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

磁控濺射設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上濺鍍金屬、非金屬、氧化物、介質(zhì)等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO等。濺鍍膜層均勻、致密、附著力強(qiáng)，可應(yīng)用到新型電子材料制備及光學(xué)、太陽能、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。

詳細(xì)介紹

磁控濺射系統(tǒng)

設(shè)備特點(diǎn)：

●具有多個(gè)濺射靶，可沉積單層、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜；

●濺射方式：自下而上濺射、自上而下濺射可選；

●基片臺(tái)可加熱，可制備單晶薄膜；

●可選配輔助清洗離子源，有效提高薄膜的附著力；

技術(shù)指標(biāo)

●靶材數(shù)量：2-4個(gè)

●基片尺寸：2-8英寸

●基片臺(tái)轉(zhuǎn)速：5-30rpm，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)

In-line磁控濺射系統(tǒng)