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更新時(shí)間：2022-12-24 15:35:17瀏覽次數(shù)：802次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線PhoenixBeta研磨拋光設(shè)備：研磨/拋光分三個(gè)階段：1.磨平階段—使固定在中心加載夾持器上的多塊試樣處于同一平面2.無損傷(磨光)階段—去除試樣表面的變形損傷
Phoenix Beta研磨拋光設(shè)備：
研磨 / 拋光分三個(gè)階段：
1. 磨平階段—使固定在中心加載夾持器上的多塊試樣處于同一平面
2. 無損傷(磨光)階段—去除試樣表面的變形損傷，使其不影響觀察到試樣的真實(shí)組織
3. 拋光階段—去除殘余的微細(xì)磨痕
其特性如下：
1. 直徑8" (203mm)或10" (254mm)的研磨/拋光機(jī)
2. 單或雙盤研磨，轉(zhuǎn)速可調(diào)
3. 穩(wěn)固厚重的鑄造底座能減少震動(dòng)并增強(qiáng)了設(shè)備壽命
4. 的皮帶驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)
5. 安裝上VECTOR動(dòng)力頭就可升級(jí)為半自動(dòng)試樣制備系統(tǒng)
6. 半自動(dòng)試樣制備系統(tǒng)提高了效率增強(qiáng)了試樣制備一致性
7. 隨材料和試驗(yàn)人員的不同，但試樣制備的一致性保持不變
8. 單點(diǎn)加載荷和中心加載荷模式
9. 中心加載荷模式允許每任意一個(gè)試樣能在制備過程中從夾持器中取下，以便于檢查。也可以每次只制備一個(gè)試樣
10. 通過LED 顯示屏來改變研磨 / 拋光時(shí)間
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