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詳細(xì)摘要： 多角度激光橢偏儀SE400advanced使用632.8nm波長(zhǎng)HeNe激光器，對(duì)測(cè)量薄膜厚度，折射率和吸收系數(shù)有非常出色的精度
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-02-14 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 光譜范圍：350nm-850nm可選:280nm-850nmSE800是采用快速二極管陣列探測(cè)器的高性能光譜橢偏儀，在紫外/可見(jiàn)光范圍內(nèi)兼具快速數(shù)據(jù)采集速度和全...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-02-13 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Innovative˙Powerful˙Affordable設(shè)計(jì)創(chuàng)新˙功能強(qiáng)大˙經(jīng)濟(jì)實(shí)惠FilmSenseFS-1多波長(zhǎng)橢偏儀采用壽命長(zhǎng)LED光源和非移動(dòng)式部件...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-02-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： FilmSense新一代多波長(zhǎng)橢偏儀系統(tǒng)現(xiàn)已問(wèn)世
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-02-11 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： RIEEtchlab200現(xiàn)價(jià)比高反應(yīng)離子刻蝕機(jī)Etchlab200采用直接裝片的平行板式等離子源設(shè)計(jì)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-01-27 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： ICP-RIESI500納米結(jié)構(gòu)低損傷刻蝕由于等離子的能量分布低，從而能實(shí)現(xiàn)低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-01-26 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Aymont目前生產(chǎn)和款商業(yè)型晶體生長(zhǎng)爐，可用于量產(chǎn)150mm
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2022-12-26 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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