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武漢頤光科技有限公司


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ME-L 穆勒矩陣橢偏儀

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更新時(shí)間:2023-02-03 10:17:48瀏覽次數(shù):489次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等??蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)...

詳細(xì)介紹

  • 一、概述

    ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)的創(chuàng)新技術(shù),具備 1 全穆勒矩陣測(cè)量技術(shù), 2 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù),3 超級(jí)消色差補(bǔ)償器設(shè)計(jì)技術(shù),4 納米光柵表征測(cè)量技術(shù) 等技術(shù)??蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析,代表當(dāng)今橢偏行業(yè)技術(shù)水平。

    ■ 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素;

    配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊;

    軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;

    豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力


    二、產(chǎn)品特點(diǎn)

    采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);

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    ■ 可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測(cè)量信息量更大,測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn);

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    基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置,可一次測(cè)量獲得全穆勒矩陣的16個(gè)元素,相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測(cè)量信息;

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    頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜;

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    數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料;

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    集成對(duì)納米光柵的分析,可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息;

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    三、產(chǎn)品應(yīng)用

    ■ 半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu):介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等;

    ■ 半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu):納米光柵,套刻誤差,T型相變存儲(chǔ)器等;

    ■ 新材料,新物理現(xiàn)象研究:材料光學(xué)各向異性,電光效應(yīng)、彈光效應(yīng)、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng)、旋光效應(yīng)、Kerr效應(yīng)、Farady效應(yīng)等;

    ■ 平板顯示:TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等;

    ■ 光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等)反射率,消光系數(shù)測(cè)量,膜層厚度及表面粗糙度測(cè)量等;

    ■ 功能性涂料:增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層,以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等;

    ■ 生物和化學(xué)工程:有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等;

    ■ 塊狀材料分析:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數(shù)k表征,玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。


    建議配件

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    溫控臺(tái)Mapping擴(kuò)展模塊真空泵透射吸附組件
  • ME-L.JPG

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