產(chǎn)品介紹：
硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)，于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。 
實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果。

產(chǎn)品特點：
■ 適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等； 
■ 使硅片缺陷觀察工作簡單化，準(zhǔn)確化，同時極大程度降低此項工作強(qiáng)度； 
■ 實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果； 
■ 使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有體積小，技術(shù)*，像素較高， 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富； 
■ 傳輸接口為 USB2.0 高速接口， 軟件模塊化設(shè)計； 
■ 有效分辨率為 200 萬像素； 
■ 所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。

實際觀察效果：


硅片放大效果100倍
硅片放大效果200倍

硅片放大效果400倍
推薦工作條件：
■ 溫度：23±2℃
■ 濕度：60%~70%
■ 無強(qiáng)磁場、不與高頻設(shè)備鄰近

典型用戶：
浙江昱輝、江西塞維ＬＤＫ、常州天合等