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XploRA Nano納米拉曼光譜儀

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地東莞市

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更新時間:2025-02-24 09:12:09瀏覽次數(shù):137次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:20條

所在地區(qū):

產(chǎn)品簡介

多樣品分析平臺宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進(jìn)行簡單易用全自動操作,在幾分鐘內(nèi)即可開始測量,而不是幾小時!真正的共聚焦高空間分辨率,自動樣品臺,全顯微鏡可視化

詳細(xì)介紹



多樣品分析平臺

宏觀、微觀和納米尺度的測量可以在同一個平臺上進(jìn)行

簡單易用

全自動操作,在幾分鐘內(nèi)即可開始測量,而不是幾小時!

真正的共聚焦

高空間分辨率,自動樣品臺,全顯微鏡可視化。

高收集效率

頂部和側(cè)向拉曼光譜檢測都可以獲得高分辨和高通量測量同區(qū)域和針尖增強(qiáng)光譜測量(TERS和TEPL)

高光譜分辨率

高光譜分辨能力,多光柵自動切換,寬光譜范圍的拉曼和光致發(fā)光分析。

高空間分辨率

針尖增強(qiáng)的納米級光譜分辨率(優(yōu)于10nm)

豐富的光學(xué)光譜(拉曼和光致發(fā)光)

多技術(shù)/多環(huán)境

結(jié)合TERS/TEPL化學(xué)成像的多模式SPM技術(shù)包括AFM、導(dǎo)電和電學(xué)模式(cAFM、KPFM)、STM、液池和電化學(xué)環(huán)境。一個工作站和強(qiáng)大的軟件即可對兩臺儀器進(jìn)行控制,SPM和光譜儀可以同時或獨(dú)立操作。

堅(jiān)固性/穩(wěn)定性

高共振頻率AFM掃描器,遠(yuǎn)離噪音干擾!高性能表現(xiàn),無需主動隔振系統(tǒng)。


配置

SmartSPM掃描器和基座

閉環(huán)平板掃描器: 100 µm x 100 µm x 15 µm (±10 %)

掃描器非線性:XY≤0.05 %; Z≤0.05 %

噪聲水平:XY≤0.1 nm RMS(200 Hz帶寬,電容傳感器打開);XY≤0.02 nm RMS(100 Hz帶寬,電容傳感器關(guān)閉);Z<0.04 nm="" rms="" (1000="">

高頻掃描器:XY≥7 kHz; Z≥ 15 kHz

X, Y, Z自動趨近:XYZ數(shù)字閉環(huán)控制,Z向馬達(dá)趨近距離18mm

樣品尺寸:40 mm x 50 mm x 15 mm

樣品定位:自動樣品臺范圍:5 mm x 5 mm

定位精度:1µm

AFM測試頭

激光波長:1300nm(光譜檢測器無干擾)

激光準(zhǔn)直:全自動懸臂—光電二極管激光準(zhǔn)直

探針通道:為外部操作和探針提供自由通道

SPM測量模式

標(biāo)準(zhǔn)模式:接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、相位成像模式、側(cè)向力模式(LFM)、力調(diào)制模式、磁力顯微鏡模式(MFM)、開爾文探針模式(表面電勢,SKM,KPFM)、掃描電容模式、靜電力顯微鏡模式(EFM)、力曲線測量、壓電響應(yīng)模式(PFM)、納米蝕刻、納米操縱

升級模式:溶液環(huán)境接觸模式、溶液環(huán)境半接觸模式、導(dǎo)電力顯微鏡模式、STM模式、光電流成像模式、伏安特性曲線測量等

光譜模式

共聚焦拉曼、熒光和光致發(fā)光光譜和成像

針尖增強(qiáng)拉曼光譜(AFM,STM等)

針尖增強(qiáng)熒光

近場光學(xué)顯微鏡和光譜(NSOM/SNOM)

導(dǎo)電力AFM(選購)

電流范圍:100fA~10µA;三檔量程自動切換(1 nA, 100 nA 和 10 µA)

光路耦合通道

頂部和側(cè)向能夠同時使用消色差物鏡:從頂部或側(cè)向可用100X,NA0.7物鏡;可同時使用20倍和100倍

長期光譜激光穩(wěn)定對準(zhǔn)的閉環(huán)壓電物鏡掃描器:20µm x 20µm x 15µm;

分辨率:1nm

光譜儀

全自動緊湊型XploRA Plus顯微光譜儀,可獨(dú)立使用顯微拉曼光譜儀

波長范圍:75cm-1至4000 cm-1

光柵:四光柵自動切換(600, 1200, 1800 and 2400 g/mm)

自動化:全自動,軟件控制操作

檢測器

全光譜范圍CCD和EMCCD檢測器。

光源

典型波長:532nm、638nm、785nm;其它波長可根據(jù)需求提供

自動化:全自動,軟件控制操作

軟件

集成軟件包,包括全功能SPM、光譜儀和數(shù)據(jù)采集控制、光譜和SPM數(shù)據(jù)分析和處理套件,包括光譜擬合、去卷積和濾波,可選模塊包括單變量和多變量分析套件(PCA、MCR、HCA、DCA),顆粒檢測和光譜搜索功能。


典型應(yīng)用

爆炸物納米顆粒表征

石墨烯納米帶的TERS表征

光刻技術(shù)誘導(dǎo)的石墨烯損傷的納米尺度表征

本應(yīng)用報(bào)告介紹了對電子束光刻法制造的石墨烯納米帶(GNRs)的TERS表征。TERS可實(shí)現(xiàn)的化學(xué)納米尺度分辨率揭示了GNRs邊緣的無定形碳的存在,并定位了有機(jī)殘留物。TERS可以被認(rèn)為是表征納米石墨烯的一個有價值的工具,這是開發(fā)基于石墨烯的納米設(shè)備的一個重要步驟。



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