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日本IS-POLISHER精密小型試樣研磨機(jī)ISPP-1000的特長介紹
ISPP-1000是以研磨較小的試樣為目的而開發(fā)的，擅長于以電子顯微鏡為首的各種分析分析用的試樣研磨。
特長
CP用試樣的預(yù)處理研磨
僅用ISPP就能給出EBSD的晶體取向面
通過研磨時間、研磨壓、速度、擺動動作的設(shè)定、獨(dú)的創(chuàng)的試樣保持、研磨量調(diào)整機(jī)構(gòu)，可以進(jìn)行對組織結(jié)構(gòu)損傷較少的研磨。
另外，通過使用可選的配重消除器，可以進(jìn)一步減輕試樣的負(fù)擔(dān)，將損傷抑制在最小限度。
輕松實(shí)現(xiàn)高放大率的傾斜研磨
在ISPP中，通過在試料支架上安裝可選的萬向調(diào)整器，可以通過2個微型單元在各個方向上最多調(diào)整6度，在整個圓周方向上調(diào)整
傾斜角。 微分辨率相當(dāng)于每存儲器0.02度。 為了得到高放大率的淺傾斜角也可以高精度地設(shè)定。
半導(dǎo)體截面樣品制作又快又漂亮
備有可以直接夾緊器件的結(jié)構(gòu)的試料支架。 由此，不需要包埋處理的時間，可以實(shí)現(xiàn)壓倒性的分析TAT縮短。
規(guī)格選項(xiàng)
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
消耗品
| 600#、800#、1200#、1500# | ||
