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合肥科晶材料技術(shù)有限公司


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單靶磁控等離子濺射儀

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產(chǎn)品型號

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更新時(shí)間:2023-07-07 19:18:18瀏覽次數(shù):167次

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產(chǎn)品簡介

型號: VTC-16-D 產(chǎn)品概述: VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀,其靶頭直徑為2英寸,并且樣品臺高度可調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀主要是制作一些金屬鍍膜。

詳細(xì)介紹

設(shè)備名稱與型號

單靶磁控等離子濺射儀VTC-16-D

特點(diǎn)

· 體積小巧,操作簡單,易上手

· 擁有小型磁控靶頭,可以鍍金、銀、鉑等金屬

基本參數(shù)

·輸入電源:220V,50/60HZ

· 功率:<1000W

· 濺射電流:0-80mA可調(diào)

· 輸出電壓:DC 500V

濺射腔室

· 石英腔室尺寸:外徑φ166mm×內(nèi)徑φ150mm×高150mm

· 采用氟膠O型圈密封

· 法蘭蓋上安裝了一個(gè)可手動操作的擋板,用于靶材的預(yù)濺射。一個(gè)φ6.35的卡套接頭為進(jìn)氣口,用于連接進(jìn)氣管。一個(gè)手動放氣閥用于往石英腔體內(nèi)部充入空氣。

· 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體

圖片1.png

·通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的微量精密調(diào)節(jié)閥控制進(jìn)入石英腔體內(nèi)部工作氣體的流量,從而達(dá)到調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部的真空度

· 通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的電位器,實(shí)現(xiàn)對濺射電流大小的控制。

圖片2.png   圖片3.png

靶頭與靶材

· 一個(gè)2英寸不帶水冷的磁控濺射靶頭 ,磁控濺射靶頭的使用溫度為80度,超過80度磁控靶頭會失去磁性而不能工作。

· 濺射時(shí)間 :1-120s可調(diào)                           

· 標(biāo)配一塊銅靶

· 靶材尺寸要求:φ2*0.5-5mm厚度

· 適合濺射Au,Ag,Cu,等金屬(可在我公司選購)

樣品臺

· 一個(gè)上下高度可調(diào)的樣品臺,樣品臺與靶材之間的可調(diào)距離為25-70mm

· 樣品臺尺寸:φ2英寸

· 樣品臺可以選配加熱功能,加熱溫度500度;

圖片4.png    圖片5.png

皮拉尼真空計(jì)

· 測量范圍:1*10-4 mbar—1000 mbar(1*10-4—750 torr)

· 準(zhǔn)確度:1000mbar—20 mbar(讀數(shù)的30%)

           20—0.002mbar (讀數(shù)的2%)

· 重復(fù)性:20—0.002mbar (讀數(shù)的2%)

· 使用濕度:30℃環(huán)境下≤80%  40℃環(huán)境下≤50%無冷凝氣體;

· 使用溫度:5℃—60℃

圖片6.png


薄膜測厚儀(選配)

· 一個(gè)精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度,分別率為0.10 ?

· LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

圖片7.png   圖片8.png

真空系統(tǒng)(選配)

· 型號:VRD-8

· 抽氣速率:2.2 L/S

· 電機(jī)功率:370 W

· 極限壓強(qiáng):5×10-1Pa(不帶負(fù)載)

· 實(shí)際壓強(qiáng):≤5 Pa(冷態(tài)下機(jī)械泵抽20分鐘)

· 如果想要獲得更高的真空度(10-5toor or better)可選購國產(chǎn)或進(jìn)口高真空機(jī)組

圖片9.png

設(shè)備使用要求

· 為了達(dá)到理想的薄膜厚度,可進(jìn)行多次濺射鍍膜

· 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材,基片和樣品臺的潔凈

· 需要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,則在濺射前清潔基材表面

外形尺寸

500*350*550mm(長*寬*高)

圖片10.png

重量

20KG(不包含真空泵、水冷設(shè)備)

質(zhì)保

· 一年保修,終身技術(shù)支持

1、耗材部分入加熱元件、石英管、樣品坩堝等不包含在保修范圍內(nèi)

2、因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成損壞不在保修范圍內(nèi)

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