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合肥科晶材料技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間:2023-07-07 19:18:18瀏覽次數(shù):167次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線型號: VTC-16-D 產(chǎn)品概述: VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀,其靶頭直徑為2英寸,并且樣品臺高度可調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀主要是制作一些金屬鍍膜。
設(shè)備名稱與型號 | 單靶磁控等離子濺射儀VTC-16-D |
特點(diǎn) | · 體積小巧,操作簡單,易上手 · 擁有小型磁控靶頭,可以鍍金、銀、鉑等金屬 |
基本參數(shù) | ·輸入電源:220V,50/60HZ · 功率:<1000W · 濺射電流:0-80mA可調(diào) · 輸出電壓:DC 500V |
濺射腔室 | · 石英腔室尺寸:外徑φ166mm×內(nèi)徑φ150mm×高150mm · 采用氟膠O型圈密封 · 法蘭蓋上安裝了一個(gè)可手動操作的擋板,用于靶材的預(yù)濺射。一個(gè)φ6.35的卡套接頭為進(jìn)氣口,用于連接進(jìn)氣管。一個(gè)手動放氣閥用于往石英腔體內(nèi)部充入空氣。 · 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體 ·通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的微量精密調(diào)節(jié)閥控制進(jìn)入石英腔體內(nèi)部工作氣體的流量,從而達(dá)到調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部的真空度 · 通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的電位器,實(shí)現(xiàn)對濺射電流大小的控制。
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靶頭與靶材 | · 一個(gè)2英寸不帶水冷的磁控濺射靶頭 ,磁控濺射靶頭的使用溫度為80度,超過80度磁控靶頭會失去磁性而不能工作。 · 濺射時(shí)間 :1-120s可調(diào) · 標(biāo)配一塊銅靶 · 靶材尺寸要求:φ2″*(0.5-5)mm厚度 · 適合濺射Au,Ag,Cu,等金屬(可在我公司選購) |
樣品臺 | · 一個(gè)上下高度可調(diào)的樣品臺,樣品臺與靶材之間的可調(diào)距離為25-70mm · 樣品臺尺寸:φ2英寸 · 樣品臺可以選配加熱功能,加熱溫度500度;
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皮拉尼真空計(jì) | · 測量范圍:1*10-4 mbar—1000 mbar(1*10-4—750 torr) · 準(zhǔn)確度:1000mbar—20 mbar(讀數(shù)的30%) 20—0.002mbar (讀數(shù)的2%) · 重復(fù)性:20—0.002mbar (讀數(shù)的2%) · 使用濕度:30℃環(huán)境下≤80% 40℃環(huán)境下≤50%無冷凝氣體; · 使用溫度:5℃—60℃ |
薄膜測厚儀(選配) | · 一個(gè)精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度,分別率為0.10 ? · LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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真空系統(tǒng)(選配) | · 型號:VRD-8 · 抽氣速率:2.2 L/S · 電機(jī)功率:370 W · 極限壓強(qiáng):5×10-1Pa(不帶負(fù)載) · 實(shí)際壓強(qiáng):≤5 Pa(冷態(tài)下機(jī)械泵抽20分鐘) · 如果想要獲得更高的真空度(10-5toor or better)可選購國產(chǎn)或進(jìn)口高真空機(jī)組 |
設(shè)備使用要求 | · 為了達(dá)到理想的薄膜厚度,可進(jìn)行多次濺射鍍膜 · 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材,基片和樣品臺的潔凈 · 需要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,則在濺射前清潔基材表面 |
外形尺寸 | 500*350*550mm(長*寬*高) |
重量 | 約20KG(不包含真空泵、水冷設(shè)備) |
質(zhì)保 | · 一年保修,終身技術(shù)支持 1、耗材部分入加熱元件、石英管、樣品坩堝等不包含在保修范圍內(nèi) 2、因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成損壞不在保修范圍內(nèi) |
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