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鄭州科創(chuàng)實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備有限公司
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鄭州科創(chuàng)實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備有限公司
產(chǎn)品型號(hào)KT
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廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地鄭州市
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更新時(shí)間：2023-07-21 16:28:04瀏覽次數(shù)：194次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線| 材質(zhì) | 316不銹鍘 | 加工定制 | 是 |
|---|---|---|---|
| 適用范圍 | 實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 | 用途 | 實(shí)驗(yàn)室 |
科研實(shí)驗(yàn)室真空石英腔體
真空石英腔體通常用于制造高真空環(huán)境下的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和工業(yè)設(shè)備。這些設(shè)備包括：
1. 惰性氣體保護(hù)焊接設(shè)備：惰性氣體保護(hù)焊接是一種用于保護(hù)焊件不被氧化的焊接方法，常用于在高真空或惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行。
2. 電子束物理氣相沉積設(shè)備：這種設(shè)備使用電子束來蒸發(fā)和沉積金屬薄膜或其他材料，通常在高真空環(huán)境下進(jìn)行，以便控制沉積過程和減少污染物。
真空石英腔體通常用于制造高真空環(huán)境下的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和工業(yè)設(shè)備。這些設(shè)備包括：
科研實(shí)驗(yàn)室真空石英腔體
1. 惰性氣體保護(hù)焊接設(shè)備：惰性氣體保護(hù)焊接是一種用于保護(hù)焊件不被氧化的焊接方法，常用于在高真空或惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行。
科研實(shí)驗(yàn)室真空石英腔體
2. 電子束物理氣相沉積設(shè)備：這種設(shè)備使用電子束來蒸發(fā)和沉積金屬薄膜或其他材料，通常在高真空環(huán)境下進(jìn)行，以便控制沉積過程和減少污染物。
3. 分子束外延設(shè)備：這種設(shè)備使用分子束在高真空環(huán)境下外延生長(zhǎng)單晶薄膜，通常用于制造半導(dǎo)體器件和其他電子設(shè)備。
4. 離子束蝕刻設(shè)備：這種設(shè)備使用離子束來蝕刻材料表面，通常用于制造微電子器件、光子學(xué)器件和傳感器等高精度設(shè)備。
除了以上應(yīng)用，真空石英腔體還可以用于制造太陽能電池、光學(xué)儀器和研究天體物理學(xué)等領(lǐng)域。
真空腔體（Vacuum chamber）是一種密封的容器，內(nèi)部的氣壓遠(yuǎn)低于大氣壓。它被廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：
1. 材料處理與制備：例如薄膜沉積，這是一種將材料沉積在基板上的過程，需要在高度真空環(huán)境下進(jìn)行以確保高純度和高質(zhì)量的沉積物。
2. 真空測(cè)試：某些儀器和設(shè)備需要在低氣壓條件下進(jìn)行性能和耐久性測(cè)試，例如太空器設(shè)備。
3. 半導(dǎo)體制程：真空對(duì)處理硅片和其他半導(dǎo)體材料至關(guān)重要，因?yàn)樵诟叨日婵窄h(huán)境下，避免了氧氣及其他化學(xué)反應(yīng)物的產(chǎn)生。
4. 研究和實(shí)驗(yàn)：很多物理和化學(xué)實(shí)驗(yàn)需要在真空條件下進(jìn)行，例如基本粒子物理實(shí)驗(yàn)、低溫物理學(xué)、電子顯微鏡等。
5. 熱真空試驗(yàn)：用于模擬太空中的低壓和低氣氛條件，對(duì)航天器進(jìn)行實(shí)際工作環(huán)境的模擬試驗(yàn)。
6. 吸氣設(shè)備：例如，真空泵將氣體從腔體中抽出，產(chǎn)生真空，可用于工業(yè)生產(chǎn)、實(shí)驗(yàn)室研究等。
7. 真空包裝：這種包裝形式可以降低被包裝物品與空氣的接觸，有助于延長(zhǎng)食品保質(zhì)期，防潮和防霉等。
8. 蒸發(fā)和密封：真空腔體可以用于化工行業(yè)，實(shí)現(xiàn)高效蒸發(fā)和密封過程。
等離子體石英腔是一種石英材料制成的封閉腔室，內(nèi)部常常充滿等離子體氣體。等離子體是一種高溫、高密度的氣體，由帶正電荷的離子和帶負(fù)電荷的電子組成，具有導(dǎo)電性能。這種石英腔可以用于等離子體物理研究、等離子體加工技術(shù)以及材料表面改性等領(lǐng)域。
等離子體石英腔可以有效地將等離子體與外界隔離，從而提高等離子體的純度和密度，同時(shí)保護(hù)外部設(shè)備不受等離子體的影響。例如，在半導(dǎo)體制造過程中，石英腔可以通過對(duì)氣體進(jìn)行高頻電場(chǎng)激勵(lì)來產(chǎn)生等離子體，用于蝕刻、沉積和表面改性等工藝。此外，石英腔還能保持良好的熱穩(wěn)定性和耐腐蝕性，使其能夠在高溫、高壓和高氧化性的環(huán)境下，長(zhǎng)期運(yùn)行。
電感耦合等離子（Inductively Coupled Plasma，ICP）和電容耦合等離子（Capacitively Coupled Plasma，CCP）是兩種廣泛用于實(shí)驗(yàn)室中的等離子體源。它們的主要區(qū)別在于它們產(chǎn)生等離子體的機(jī)制和特點(diǎn)。
ICP是在高整流器運(yùn)作的RF（射頻）電源提供的高頻RF（常見頻率是27.12 MHz）的作用下工作的，而這個(gè)RF電源將產(chǎn)生的高頻電場(chǎng)通過感應(yīng)耦合傳送到氣體放電管（都柏林管）內(nèi)。這種電場(chǎng)產(chǎn)生了交變電壓，導(dǎo)致氣體分子發(fā)生電離，產(chǎn)生了等離子體。ICP的優(yōu)點(diǎn)在于它可以產(chǎn)生非常高的電子溫度和較高的等離子體密度，并用于產(chǎn)生高靈敏度的熒光譜檢測(cè)。
另一方面，CCP是通過直接應(yīng)用高頻電場(chǎng)在帶電片和反電極之間產(chǎn)生的交變電場(chǎng)來產(chǎn)生等離子體的。這種電場(chǎng)使電極表面產(chǎn)生周期性的荷電狀態(tài)變化，從而促進(jìn)了等離子體的生成。CCP的優(yōu)點(diǎn)是其低能耗和簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，但它通常只能產(chǎn)生低電子溫度和低等離子體密度的等離子體，因此在熒光譜檢測(cè)方面使用較少。
因此，這兩種等離子體產(chǎn)生技術(shù)在實(shí)驗(yàn)室中都得到廣泛應(yīng)用，并根據(jù)所需的特定應(yīng)用和實(shí)驗(yàn)室條件進(jìn)行選擇。
技術(shù)規(guī)格參數(shù)：
腔體材質(zhì)：鋁合金+石英玻璃
腔體尺寸：內(nèi)徑110mmx深度220MM
腔體容積：2.5L
腔體觀察窗：內(nèi)徑φ35 石英玻璃
腔體抽氣口：KF16
腔體進(jìn)氣口：6MM卡套
腔體真空度：機(jī)械泵小于等于0.5Pa
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