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鈣鈦礦鍍膜機(jī)

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北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、 OLED 等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過程中樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置，防止蒸發(fā)源被污染。

產(chǎn)品名稱	鈣鈦礦鍍膜機(jī)
主要特點(diǎn)	1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
	2、設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度可達(dá) 180℃。 3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。
技術(shù)參數(shù)	1、鍍膜室：不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板，腔室尺寸約為 600mm× 450mm×450mm 2、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng) 3、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa 4、系統(tǒng)漏率：≤ 1×10-7Pa 5、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上；有機(jī)蒸發(fā)源 4 個(gè)、容積 5ml ，2 臺(tái)蒸發(fā)電源，可測(cè)溫、