污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市君威環(huán)保科技有限公司
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深圳市君威環(huán)保科技有限公司
產(chǎn)品型號(hào)JW-ROE-01
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地深圳市
聯(lián)系方式：馬國(guó)龍查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2024-05-21 16:30:15瀏覽次數(shù)：252次
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經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家
商鋪產(chǎn)品：34條
所在地區(qū)：廣東深圳市
聯(lián)系人：馬國(guó)龍 （銷(xiāo)售）
| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 產(chǎn)水量 | 0.5-100 |
|---|---|---|---|
| 電導(dǎo)率 | 0.055μs/cm | 水質(zhì)要求 | 市政自來(lái)水 |
| 脫鹽率 | 99.5% | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 半導(dǎo)體,光電,電池/蓄電池,實(shí)驗(yàn)室,線(xiàn)路板 |
EDI（Electrodeionization）是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。它巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合，利用兩端電極壓使水中帶電離子移動(dòng)，并配合離子交換樹(shù)脂及選擇性樹(shù)脂膜以加速離子移動(dòng)去除，從而達(dá)到水純化的目的。在EDI除鹽過(guò)程中，離子在電場(chǎng)作用下通過(guò)離子交換膜被清除。
一、產(chǎn)品總述：
EDI超純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置，根據(jù)客戶(hù)的需求采用的不同的工藝流程來(lái)制取符合客戶(hù)生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn)。系統(tǒng)采用RO+EDI純化水工藝，產(chǎn)水水質(zhì)滿(mǎn)足客戶(hù)的生產(chǎn)用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統(tǒng)整體人性化設(shè)計(jì)，模塊化安裝，占地面積小，操作簡(jiǎn)單方便，運(yùn)行穩(wěn)定，節(jié)能。
相關(guān)參數(shù)：
進(jìn)水源：反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-10μ?S/cm
PH值： 6.5-9.0
溫度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以?CaCO3?計(jì))
顆粒： ≤1μ?m
有機(jī)物： TOC?小于?0.5ppm（建議檢測(cè)不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金屬離子： ≤0.1ppm
進(jìn)水壓力： 0.2—0.4MPa
產(chǎn)水壓力： 產(chǎn)水壓力比濃水壓力高0.05-0.1Mpa，膜堆壓差取決于流量與溫度
我司安排現(xiàn)場(chǎng)安裝、調(diào)試、培訓(xùn)以及定期保養(yǎng)。更多產(chǎn)品型號(hào)及價(jià)格請(qǐng)致電咨詢(xún)。
二、制水工藝（演示）：
三、設(shè)備圖片預(yù)覽：
四、超純水設(shè)備應(yīng)用范圍
1.化妝品行業(yè)：
護(hù)膚品生產(chǎn)用純水、洗發(fā)水生產(chǎn)用純水、染發(fā)劑生產(chǎn)用純水、牙膏生產(chǎn)用純水 、洗手液生產(chǎn)用水。
2.食品、飲料、純凈水行業(yè)：
食品生產(chǎn)用水和飲料生產(chǎn)用水以及純凈水的生產(chǎn)
3.電子工業(yè)：
鋁箔清洗；電子管?chē)娡颗湟海伙@相管玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。
4.電池行業(yè)：
蓄電池生產(chǎn)用純水、鋰電池生產(chǎn)用純水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用純水。
5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。
6.紡織印染工業(yè)：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。
7.超聲清洗用純水
8.涂裝行業(yè)：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。
五、不同出水品質(zhì)的工藝和材質(zhì)選項(xiàng)
六、操作系統(tǒng)顯示界面（下為演示界面）：
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