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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱處理后的LCP的耐氣候性、耐輻射性良好，具有優(yōu)異的阻燃性，能熄滅火焰而不再繼續(xù)進(jìn)行燃燒。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠...

芯片HMDS預(yù)處理，可編程HMDS通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處...

HMDS蒸鍍真空烤箱，芯片HMDS蒸鍍烤箱HMDS的HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體（例如氮氣）帶著HMDS的蒸汽通過芯片表面,而在晶面上形成一層薄膜

PI烘箱，厭氧烘箱固相亞胺化常用于PI薄膜的制備即將PAA溶液澆鑄成膜后加熱進(jìn)行亞胺化溶液亞胺化是在PAA溶液中加入共沸溶劑加熱回流通過共沸溶劑的蒸出帶出反應(yīng)過...

鼓風(fēng)式真空烘箱，真空鼓風(fēng)干燥箱用于半導(dǎo)體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。BCB、PI、PBO膠固化，LCP新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。

氮氣真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱可達(dá)低氧濃度，厭氧烘烤、低真空熱處理烘烤。用于半導(dǎo)體、新材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場所。適用...

HMDS 烘箱是將HMDS蒸汽通過干燥的真空腔內(nèi)加熱到(120-150°C)，在襯底表面上HMDS作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。

真空手套箱,真空惰性氣體手套 箱在科學(xué)實驗過程中，有些物質(zhì)在大氣狀態(tài)下極易氧化和潮解，這使得試驗物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)及樣品的前級處理非常困難，影響了試驗過程和測試結(jié)果...

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等...

HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、...

智能型無塵無氧烘箱，高溫?zé)o塵 無氧化烘箱又稱為PI固化烘箱，厭氧烘箱，高溫?zé)o氧烘箱，用于PI、BCB膠高溫固化、LCP熱處理烘烤、光刻膠固化等電子，半導(dǎo)體、新材...

高溫氮氣真空烤箱，400度無氧烘箱用于鍵合材料的真空預(yù)處理 、光刻膠固化、堅膜，BCB固化、ITO膜退火，PI（聚酰亞胺）固化等工藝

氮氣真空無氧烘箱,高溫?zé)o氧真空烘箱用于鍵合前鍵合材料的真空固化 、LCP膜熱處理，BCB/PI膠固化等工藝。 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、新材料、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)...

真空無氧烘箱，PI固化厭氧烤箱用于PI/BCB/LCP固化，半導(dǎo)體封裝等。溫度范圍：RT+30～450℃； 溫度波動度：±1℃；溫控精度：0.1℃;氧...

熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計，能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行...

小型恒溫恒濕箱，半導(dǎo)體高低溫濕熱試驗箱可以用來確認(rèn)產(chǎn)品在溫濕度氣候環(huán)境條件下儲存、運輸以及使用適應(yīng)性。

LCP膜專用高溫?zé)o氧烘箱LCP薄膜需要進(jìn)行厚度組織重整及配套的熱處理優(yōu)化，才能滿足高頻高速服役環(huán)境下的性能要求.

濕敏薄膜專用高溫?zé)o氧烘箱將基底溶液聚酰胺酸懸涂在制備有犧牲層的載體硅片上，采用MEMS工藝制作濕度敏感單元，本文制作的濕度傳感器采用“三明治"結(jié)構(gòu)，包括上電極、...

HMDS烤箱，HMDS真空烘箱將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。