美國KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬束離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機(jī).
RFICP 380型美國KRI大口徑射頻離子源產(chǎn)品特性介紹如下：
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動(dòng)匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì)
3. 離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計(jì), 自動(dòng)調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
4. 全自動(dòng)控制器
5. 離子束動(dòng)能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用
RFICP 380型美國KRI大口徑射頻離子源技術(shù)規(guī)格：
陽極 | 電感耦合等離子體
2kW & 1.8 MHz
射頻自動(dòng)匹配 |
最大陽極功率 | >1kW |
最大離子束流 | > 1000mA |
電壓范圍 | 100-1500V |
離子束動(dòng)能 | 100-1200eV |
氣體 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-50sccm |
壓力 | < 0.5mTorr |
離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn) | OptiBeamTM |
離子束柵極 | 38cm Φ |
柵極材質(zhì) | 鉬 |
離子束流形狀 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 or RFN |
高度 | 38.1 cm |
直徑 | 58.2 cm |
鎖緊安裝法蘭 | 12"CF |
美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸磁存儲(chǔ)器刻蝕機(jī), 8英寸量產(chǎn)型金屬刻蝕機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領(lǐng)域.
作為蝕刻機(jī)的核心部件, KRI 射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時(shí)間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!
東莞市廣聯(lián)自動(dòng)化科技有限公司專業(yè)供應(yīng)進(jìn)口電磁閥、氣缸、泵、傳感器、繼電器、開關(guān)、離合器、過濾器、濾芯、流量計(jì)、液位計(jì)、編碼器、伺服閥等產(chǎn)品。德國美國有公司，廠家一手貨源，詳請(qǐng)致電。
