邁可諾技術(shù)有限公司
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詳細(xì)摘要： PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺臺式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn)，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。
產(chǎn)品型號：PPC973所在地：上海市更新時(shí)間：2022-10-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 遠(yuǎn)程等離子清潔的原理遠(yuǎn)程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上，控制器向遠(yuǎn)程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發(fā)等離子體，分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基，活性基...
產(chǎn)品型號：EM-KLEEN所在地：上海市更新時(shí)間：2022-10-14 在線留言
詳細(xì)摘要： PSD Pro系列：PSDP 系列產(chǎn)品是研究級的紫外臭氧清洗系統(tǒng)，具有*的靈活性，能滿足有機(jī)分子去除和其他眾多的應(yīng)用?？梢灾苯釉诳諝庵胁僮?，或是通過其中一個(gè)進(jìn)氣...
產(chǎn)品型號：PSDP-UV4T所在地：上海市更新時(shí)間：2022-10-04 在線留言
詳細(xì)摘要： PSD系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺式清洗設(shè)備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個(gè)帶反射罩的高強(qiáng)度UV格柵燈盤, 和可調(diào)節(jié)高...
產(chǎn)品型號：PSD-UV8所在地：上海市更新時(shí)間：2022-10-03 在線留言
詳細(xì)摘要： Harrick 氧等離子表面處理儀除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能：等離子體表面處理儀的等離子體作用于材料表面，使表面分子的...
產(chǎn)品型號：PDC-002所在地：上海市更新時(shí)間：2022-10-03 在線留言
詳細(xì)摘要： 1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙；2）腔體容積：2.6L；3）腔體尺寸：內(nèi)徑：110毫米，深度：280毫米。
產(chǎn)品型號：Tergeo所在地：上海市更新時(shí)間：2022-07-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 1、13.56MHz高頻射頻發(fā)生器；2、7英寸觸摸屏控制界面，全自動操作；3、標(biāo)配75W版本，可選150W版本；4、系統(tǒng)具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動表...
產(chǎn)品型號：Tergeo-Plus所在地：上海市更新時(shí)間：2022-07-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 進(jìn)口狹縫涂布儀英國OSSILA系統(tǒng)為您的研究提供以下益處：?不銹鋼槽模頭為您提供均勻的分配解決方案?內(nèi)置便捷的操作軟件 - 該系統(tǒng)擁有自己的獨(dú)立數(shù)字控制系統(tǒng)，因...
產(chǎn)品型號：L2005A1所在地：上海市更新時(shí)間：2021-07-23 在線留言
詳細(xì)摘要： 狹縫式薄膜涂布機(jī)（狹縫擠出式涂布機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池涂布機(jī)）適用于有機(jī)太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
產(chǎn)品型號：CS18所在地：上海市更新時(shí)間：2021-06-07 在線留言
詳細(xì)摘要： Harrick 氣體流量控制器技術(shù)參數(shù)：緊湊的臺式設(shè)備、符合CE 安全標(biāo)準(zhǔn)兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的氣體流量計(jì)（0.104 scfh & 0.22 scfh）
產(chǎn)品型號：PDC-FMG-2所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以...
產(chǎn)品型號：全系列所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢：1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年3、150度烘烤，縮短了烘烤時(shí)間4、單次旋...
產(chǎn)品型號：RD3、RD6所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。 為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后...
產(chǎn)品型號：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： EM Resist SU-8負(fù)性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。
產(chǎn)品型號：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，穩(wěn)定的接近式和接觸式光...
產(chǎn)品型號：NXQ4000系列所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻...
產(chǎn)品型號：MMA16所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準(zhǔn)器，在晶片的頂側(cè)和底側(cè)包括對準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，因此可以與頂側(cè)對準(zhǔn)對頂側(cè)表面進(jìn)行接觸，軟接觸和接近圖...
產(chǎn)品型號：MPEM-1600所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產(chǎn)品型號：CESx124所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單...
產(chǎn)品型號：WS-1000M所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 勻膠機(jī)（spin coater）的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實(shí)驗(yàn)中的薄膜制...
產(chǎn)品型號：POLOS450所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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