工業(yè)的生產(chǎn)離不開水，大多數(shù)工業(yè)企業(yè)都是高耗水行業(yè)，尤其是半導體行業(yè)，在生產(chǎn)中不可避免地產(chǎn)生含有各種污染物的廢水，其中含氟離子、含銅離子和含磷廢水更為嚴重。

　　半導體工業(yè)廢水主要包括硅片切割、磨削的廢水和半導體器件封裝外殼的電鍍廢水兩部分，其中半導體器件封裝外殼的電鍍廢水主要是指半導體集成電路器件封裝外殼的電鍍廢水和半導體分立器件封裝外殼的電鍍廢水，即在封裝外殼的金屬部件上層疊起導電和防腐作用的金屬層時產(chǎn)生的廢水，污染物主要是酸、堿、錫、鉛、銅、鎳等金屬離子以及有機物和有機絡(luò)合物。硅片切割磨削廢水是在硅片切割磨削過程中產(chǎn)生的，其中含有大量亞微米級硅顆粒、幾十納米以下金剛砂磨粒和清洗劑。

　　萊特萊德半導體廢水處理設(shè)備針對半導體廢水的特點及處理難點，采用Neterfo極限分離系統(tǒng)，具有無變相、無污染、高效率、低耗能等諸多優(yōu)點，該系統(tǒng)發(fā)揮了膜的優(yōu)勢和性能，半導體廢水經(jīng)過處理后，可大量回收廢水中的有害重金屬離子，并且不會造成二次污染，使水資源實現(xiàn)再次利用。Neterfo極限分離系統(tǒng)是針對三高廢水專門開發(fā)的一套膜深度處理系統(tǒng)，系統(tǒng)采用錯流式PON抗污染技術(shù)、POM寬通道高架橋旁路技術(shù)等技術(shù)，實現(xiàn)高回收率和低能耗的廢水處理效果，是廢水回用、物料濃縮和分離等領(lǐng)域的理想選擇。

　　目前，節(jié)約用水、中水回用、廢水回收利用已成為工業(yè)應(yīng)對缺水危機的重要措施，特別是廢水回用，既能減少對水資源的需求、降低企業(yè)生產(chǎn)成本、也減少了對環(huán)境的污染。