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JYSC-1000離子濺射儀

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產(chǎn)品簡介

此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩(wěn)定，操作簡單方便

詳細(xì)介紹

此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩(wěn)定，操作簡單方便。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，限度保護(hù)樣品。

主要特點(diǎn):

² 顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn)，方便觀察操作；

² 真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；

² 微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準(zhǔn)確，帶有刻度標(biāo)識；

² 真空泵抽速快，噪音低，適合實(shí)驗(yàn)室使用；

² 控制電路為控制板，工作穩(wěn)定可靠；

² 顯示控制操作部分布局合理，位于同側(cè)，使用方便；

² 磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，限度保護(hù)樣品；

技術(shù)參數(shù):

1.樣品室空間：直徑120mm×高110mm
2.Au靶為標(biāo)配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm
3.獨(dú)立真空控制電路設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)真空度和濺射電流，安全互鎖，可調(diào)電流40mA；
4.侵入式磁控低溫離子源，可快速更換靶材，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩；
5.使用獨(dú)立計(jì)時(shí)控制器，精準(zhǔn)計(jì)時(shí)，可調(diào)設(shè)置范圍:1-500秒，連續(xù)可調(diào)
6.自動(dòng)真空泄氣功能，自動(dòng)排氣，可通過數(shù)字定時(shí)器進(jìn)行控制
7.進(jìn)口真空泵，抽速8.5m3/h，噪聲不大于48dB,可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統(tǒng)
8.微型真空氣閥：高精度微量流量閥，精度±0.1Pa

關(guān)鍵詞：離子濺射儀真空泵

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