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日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

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更新時(shí)間：2022-09-28 14:45:27瀏覽次數(shù)：224次

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000，采用磁控型電極，限度地減輕對樣品的損壞。

詳細(xì)介紹

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

特點(diǎn)：

。采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件
?？商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格：

項(xiàng)目		說明
放電：	類型：	磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
	電極組成：	反向平行盤(嵌入磁鐵)
	電壓：	0.4 kV DC(直流可變)
	電流：	40 mA DC
噴鍍速率 ^*1()： [條件]：壓力：7 Pa 放電電流：40 mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mm	Pt 靶(選配件)：	15 nm/min
	Pt-Pd 靶(選配件)：	20 nm/min
	Au 靶(選配件)：	35 nm/min
	Au-Pd 靶(選配件)：	25 nm/min
樣品尺寸：	直徑：	φ60 mm
樣品尺寸：	高度：	20 mm
機(jī)械泵：		135/162 l/min (50/60Hz)
靶材^*2：		Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求：		單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸：	寬度：	450 mm
	長度：	391 mm
	高度：	390 mm
重量：		主機(jī)：約 25 kg 機(jī)械泵：約 28 kg