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HTM PECVD設(shè)備

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產(chǎn)品介紹NF-300HHTM PECVD設(shè)備 產(chǎn)品介紹NF-300H 設(shè)備由拓荊科技承擔(dān)了國(guó)家十三五重大專項(xiàng)，自主研發(fā)，擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。應(yīng)用于128層及以上3D NAND閃存芯片的生產(chǎn)?？蓪?shí)現(xiàn)SiO2、SiN（ONON）多層薄膜堆疊結(jié)構(gòu)和Thick TEOS 薄膜，在均勻性、顆粒度、粗糙度、應(yīng)力及產(chǎn)能等方面實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，設(shè)備性能指標(biāo)達(dá)同類產(chǎn)品水平......

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn)

NF-300H
HTM PECVD設(shè)備

產(chǎn)品特點(diǎn)
- 高產(chǎn)能設(shè)計(jì)和可實(shí)現(xiàn)多種薄膜沉積的快速切換
- 可實(shí)現(xiàn)多層SiO2，SiN（ONON）堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內(nèi)可進(jìn)行多片wafer沉積和wafer自動(dòng)升降旋轉(zhuǎn)功能
- 通過S2安全認(rèn)證

 

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