污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間:2022-11-02 16:13:53瀏覽次數(shù):827次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線GVC-2000磁控離子濺射儀 全自動控制,無需調(diào)整針閥鍍膜顆粒小,無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結(jié)構(gòu),玻璃不易損壞內(nèi)置操作向?qū)?,無需培訓(xùn)即可熟練操作
主要參數(shù) 外形尺寸 424(L)×345(D)×420(H) 輸入電源 220V/800W 可用靶材 所有金屬、部分化合物 靶材尺寸 φ57mm 真空室 高硅硼玻璃 φ200×130mm 工作介質(zhì) 高純氬氣(≥4N) 低真空泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 高真空泵 進(jìn)口渦輪分子泵 抽速 90L/s 極限真空 ≤5×10-3Pa 工作真空 0.1-3Pa 濺射電流 5-200mA 可調(diào) 濺射時(shí)間 1-999s 可調(diào) 樣品臺 φ125mm 樣品臺轉(zhuǎn)速 4-20rpm 可調(diào) 顯示屏 7 英寸 TFT 彩色觸摸屏 抽氣節(jié)拍 ≤5 分鐘 進(jìn)氣 全自動 放氣 全自動 預(yù)濺射 具備預(yù)濺射擋板,全自動控制 保護(hù)功能 過流保護(hù)、真空保護(hù)、分子泵過熱保護(hù)等 膜厚儀 (選配) 可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度,并通過設(shè)定來控制鍍膜過程,測量精度 0.1nm,單次鍍膜設(shè)定范圍 1-999nm,測量范圍 10μm 其它 可根據(jù)用戶需要,提供定制化產(chǎn)品
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