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GVC-2000磁控離子濺射儀

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更新時(shí)間：2022-11-02 16:13:53瀏覽次數(shù)：861次

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廣州智匯科學(xué)儀器有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

GVC-2000磁控離子濺射儀全自動(dòng)控制，無(wú)需調(diào)整針閥鍍膜顆粒小，無(wú)熱損傷靶材更換非常簡(jiǎn)單特殊密封結(jié)構(gòu)，玻璃不易損壞內(nèi)置操作向?qū)?，無(wú)需培訓(xùn)即可熟練操作

詳細(xì)介紹

主要參數(shù)
外形尺寸	424（L）×345（D）×420（H）	輸入電源	220V/800W
可用靶材	所有金屬、部分化合物	靶材尺寸	φ57mm
真空室	高硅硼玻璃 φ200×130mm	工作介質(zhì)	高純氬氣（≥4N）
低真空泵	旋片泵	抽速	1.1L/s
高真空泵	進(jìn)口渦輪分子泵	抽速	90L/s
極限真空	≤5×10-3Pa	工作真空	0.1-3Pa
濺射電流	5-200mA 可調(diào)	濺射時(shí)間	1-999s 可調(diào)
樣品臺(tái)	φ125mm	樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	4-20rpm 可調(diào)
顯示屏	7 英寸 TFT 彩色觸摸屏	抽氣節(jié)拍	≤5 分鐘
進(jìn)氣	全自動(dòng)	放氣	全自動(dòng)
預(yù)濺射	具備預(yù)濺射擋板，全自動(dòng)控制
保護(hù)功能	過(guò)流保護(hù)、真空保護(hù)、分子泵過(guò)熱保護(hù)等
膜厚儀（選配）	可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度，并通過(guò)設(shè)定來(lái)控制鍍膜過(guò)程，測(cè)量精度 0.1nm，單次鍍膜設(shè)定范圍 1-999nm，測(cè)量范圍 10μm
其它	可根據(jù)用戶需要，提供定制化產(chǎn)品