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Zeta-300臺(tái)階儀(光學(xué)輪廓儀)

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更新時(shí)間:2022-12-29 14:20:39瀏覽次數(shù):346次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品描述Zeta-300光學(xué)輪廓儀是一種非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品描述

Zeta-300光學(xué)輪廓儀是一種非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。Zeta-300繼承了Zeta-20的功能,并增加了隔離選項(xiàng)以及處理更大樣品的靈活性。該系統(tǒng)采用ZDot™技術(shù)和Multi-Mode(多模式)光學(xué)系統(tǒng),可以對(duì)各種不同的樣品進(jìn)行測(cè)量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級(jí)別的臺(tái)階高度。

Zeta-300的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot™測(cè)量模式可同時(shí)收集高分辨率3D掃描和True Color無限遠(yuǎn)焦距圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。ZDot或集成寬帶反射計(jì)都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。Zeta-300也是一種顯微鏡,可用于樣品復(fù)檢或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。Zeta-300通過提供全面的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

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主要功能

·        采用ZDotMulti-Mode(多模式)光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀,具有廣泛的應(yīng)用

·        可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡

·        ZDot:同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像

·        ZXI:白光干涉測(cè)量技術(shù),適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量

·        ZIC:干涉對(duì)比度,適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

·        ZSI:剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

·        ZFT:使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率

·        AOI:自動(dòng)光學(xué)檢測(cè),并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化

·        生產(chǎn)能力:通過測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量


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主要應(yīng)用

·        臺(tái)階高度:納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度

·        紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

·        外形:3D翹曲和形狀

·        應(yīng)力:2D薄膜應(yīng)力

·        薄膜厚度:30nm100μm透明薄膜厚度

·        缺陷檢測(cè):捕獲大于1μm的缺陷

·        缺陷復(fù)檢:采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

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工業(yè)應(yīng)用

·        LED:發(fā)光二極管和PSS(圖案化藍(lán)寶石基板)

·        半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

·        半導(dǎo)體 WLCSP(晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝)

·        半導(dǎo)體FOWLP(扇出晶圓級(jí)封裝)

·        PCB和柔性PCB

·        MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))

·        醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備

·        數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

·        大學(xué),研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

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