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上海艾時微技術(shù)開發(fā)有限公司
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更新時間：2023-05-10 15:30:38瀏覽次數(shù)：442次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線P-7可以對nm-µm級臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進行2D和3D測量，其掃描可達(dá)150mm而無需圖像拼接
一、簡介
KLA是半導(dǎo)體在線檢測設(shè)備市場龍頭的供應(yīng)商，在半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲、 MEMS 、太陽能、光電子以及其他領(lǐng)域中有著很高的。 P-7是KLA公司的第八代探針式臺階儀系統(tǒng)，歷經(jīng)技術(shù)積累和不斷迭代更新，集合眾多技術(shù)優(yōu)勢。P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進行2D和3D測量，其掃描可達(dá)150mm而無需圖像拼接。從可靠性表現(xiàn)來看， P-7具有業(yè)界的測量重復(fù)性。UltraLite®傳感器具有動態(tài)力控制，良好的線性，和精準(zhǔn)的垂直分辨率等特性。友好的用戶界面和自動化測量可以適配大學(xué)、研發(fā)、生產(chǎn)等不同應(yīng)用場景。
二、 功能
設(shè)備特點
·臺階高度：幾納米至1000um
·微力恒力控制：0.03mg至50mg
·樣品全直徑掃描，無需圖像拼接
·視頻：500萬像素高分辨率彩色攝像機
·圓弧矯正：消除由于探針的弧形運動引起的誤差
·生產(chǎn)能力：通過測序，模式識別和SECS/GEM實現(xiàn)全自動化
主要應(yīng)用
·薄膜/厚膜臺階
·刻蝕深度測量
·光阻/光刻膠臺階
·柔性薄膜
·表面粗糙度/波紋度表征
·表面曲率和輪廓分析
·薄膜的2D Stress量測
·表面結(jié)構(gòu)分析
·表面3D輪廓成像
·缺陷表征和分析
·其他多種表面分析功能
三、應(yīng)用案例
·臺階高度
P-7可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺階高度的測量。 這使其能夠量化在蝕刻，濺射，SIMS，沉積，旋涂，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。P-7具有恒力控制功能，無論臺階高度如何都可以動態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。這保證了良好的測量穩(wěn)定性并且能夠精確測量諸如光刻膠的軟性材料。
·紋理：粗糙度和波紋度
P-7提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分，并計算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)。
·外形：翹曲和形狀
P-7可以測量表面的2D形狀或翹曲。這包括對晶圓翹曲的測量，例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因。P-7還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。
·應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力
P-7能夠測量在生產(chǎn)包含多個工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。 使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲。然后通過應(yīng)用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過在直徑達(dá)200mm的樣品上通過單次掃描測量，無需圖像拼接。3D應(yīng)力的測量采用多個2D掃描，并結(jié)合θ平臺在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對整個樣品表面進行測量。
·缺陷復(fù)檢
缺陷復(fù)查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌。缺陷檢測設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫入KLARF文件。“缺陷復(fù)檢"功能讀取KLARF文件、對準(zhǔn)樣本，并允許用戶選擇缺陷進行2D或3D測量。
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