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日立 離子濺射儀 MC1000

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更新時(shí)間:2023-07-06 19:03:24瀏覽次數(shù):158次

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聯(lián)系人:李經(jīng)理

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品介紹 采用磁控型電極,限度地減輕對(duì)樣品的損壞。

詳細(xì)介紹

離子濺射儀 MC1000.jpg




產(chǎn)品介紹:


采用磁控型電極,限度地減輕對(duì)樣品的損壞。


產(chǎn)品特點(diǎn):


1、采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件


2、可處理較厚或較大的樣品(選配件)


3、記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件


產(chǎn)品規(guī)格:


項(xiàng)目說(shuō)明
放電類型磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))
電極組成反向平行盤(pán)(嵌入磁鐵)
電壓 0.4 kV DC(直流可變)
電流 40 mA DC
噴鍍速率 *1()
[條件]
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件)15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件)20 nm/min
Au 靶(選配件)35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件)25 nm/min
樣品尺寸直徑φ60 mm
高度20 mm
機(jī)械泵135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸寬度450 mm
長(zhǎng)度391 mm
高度390 mm
重量主機(jī):約 22 kg
機(jī)械泵:約 30 kg


*1: 噴鍍速率僅供參考

*2: 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。



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