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北京中科復華科技有限公司


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化學氣相沉積(PECVD)

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參  考  價:10 - 280 /臺
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產品型號

    PECVD-601/801/1201

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質

    生產商

  • 所在地

    北京市

聯系方式:陳經理查看聯系方式

更新時間:2024-04-09 10:08:22瀏覽次數:280次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:12條

所在地區(qū):北京北京市

聯系人:陳經理 (銷售經理)

產品簡介
產地 國產    

是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進行化學反應沉積的半導體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

詳細介紹

應用方向:科研與教學

產品優(yōu)勢: 高性能薄膜制備

產品配置:

樣片數量及尺寸:1片Ф6英寸

沉積材料:包括并不限于硅基(Si)薄膜、碳基(C)薄膜、硅鍺合金(SiGe)、鎢硅合金(WSi2)、W、SiC。

沉積腔體:高真空系統(tǒng)

沉積不均勻性:±3%-±6%

沉積速率:20-600nm/min(視具體材料與工藝)

工作臺:可升降,高度可調

加熱:常規(guī)加熱,可選高溫加熱

電源配置:射頻;直流偏壓

氣路數量與種類:標配4路氣路 或 用戶選配

光學性能監(jiān)測:可選配橢偏儀在線監(jiān)測系統(tǒng)

漸變折射率薄膜制備:可選配快速流量變化與控制系統(tǒng)

操作模式:全自動+半自動控制

類似產品:帶預真空室(PECVD-8100)


關鍵詞:工作臺 橢偏儀

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